纳米氧化锌的制备及其场发射特性的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-14页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第10-11页 |
| ·纳米结构ZnO的特性 | 第11-12页 |
| ·光学特性 | 第11-12页 |
| ·场发射性能 | 第12页 |
| ·ZnO纳米结构的制备方法 | 第12-13页 |
| ·本文的工作 | 第13-14页 |
| 第二章 实验方法及分析测试 | 第14-19页 |
| ·热蒸发法 | 第14-15页 |
| ·热蒸发法的原理 | 第14页 |
| ·热蒸发法的实验设备 | 第14-15页 |
| ·热蒸发法的实验步骤 | 第15页 |
| ·测试仪器及方法 | 第15-19页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第15页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第15-16页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第16-17页 |
| ·荧光光谱(PL) | 第17-18页 |
| ·场发射性能测试(FE) | 第18-19页 |
| 第三章 场致电子发射理论 | 第19-36页 |
| ·引言 | 第19-20页 |
| ·金属的场致电子发射 | 第20-26页 |
| ·金属尖端的外场致电子发射问题 | 第22-23页 |
| ·场致电子发射的定性阐述 | 第23-24页 |
| ·金属场致电子发射的定量公式 | 第24-26页 |
| ·半导体的场致电子发射 | 第26-33页 |
| ·半导体的外场致电子发射 | 第26-31页 |
| ·半导体的内场致电子发射 | 第31-33页 |
| ·电子场发射测试装置及评价参数 | 第33-34页 |
| ·场发射测试装置 | 第33-34页 |
| ·场发射评价参数 | 第34页 |
| ·场致电子发射材料 | 第34-36页 |
| 第四章 热蒸发法制备四角状纳米ZnO | 第36-42页 |
| ·形貌分析 | 第36-37页 |
| ·组分分析 | 第37-38页 |
| ·结构分析 | 第38页 |
| ·光学性能分析 | 第38-39页 |
| ·生长机理 | 第39页 |
| ·四角状纳米ZnO的场发射性能 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 热蒸发法制备杆状纳米ZnO | 第42-52页 |
| ·生长参数对形貌的影响 | 第42-43页 |
| ·性能的表征与分析 | 第43-45页 |
| ·组分分析 | 第43-44页 |
| ·结构分析 | 第44-45页 |
| ·光学性能分析 | 第45页 |
| ·生长机理 | 第45页 |
| ·图形化制备ZnO纳米结构阵列 | 第45-48页 |
| ·图形化制备的杆状纳米ZnO的场发射性能 | 第48-49页 |
| ·硅片衬底上几种纳米ZnO的场发射性能 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第六章 热蒸发法制备ZnO/ZnMgO异质结构 | 第52-59页 |
| ·ZnO纳米材料的Mg掺杂 | 第52-53页 |
| ·实验方法 | 第53-54页 |
| ·结果与分析 | 第54-57页 |
| ·SEM和EDS测试 | 第54-56页 |
| ·XRD测试 | 第56-57页 |
| ·生长机理讨论 | 第57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第七章 总结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读硕士学位期间完成的文章和专利 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
