摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-8页 |
第一章 文献综述 | 第8-23页 |
·碳纳米管简介 | 第8页 |
·碳纳米管制备方法 | 第8-10页 |
·电弧放电法 | 第9页 |
·激光蒸发法 | 第9-10页 |
·化学气相沉积法(CVD) | 第10页 |
·碳纳米管阵列简介 | 第10-11页 |
·碳纳米管阵列的制备方法 | 第11-16页 |
·物理方法 | 第11-12页 |
·化学方法 | 第12-16页 |
·碳纳米管阵列的生长机理 | 第16-17页 |
·碳纳米管阵列的应用 | 第17-21页 |
·存在的问题及发展方向 | 第21-22页 |
·本课题研究内容及意义 | 第22-23页 |
第二章 实验 | 第23-27页 |
·实验试剂 | 第23页 |
·实验仪器 | 第23-24页 |
·实验方法 | 第24-25页 |
·配置反应溶液 | 第24页 |
·催化裂解反应 | 第24-25页 |
·反应产物表征 | 第25-27页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第25页 |
·高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第25-27页 |
第三章 碳源对CVD反应产物形貌的影响 | 第27-43页 |
·碳源对放置于相同位置石英片上产物形貌的影响 | 第27-31页 |
·碳源对放置于不同位置放置的石英片上产物形貌的影响 | 第31-33页 |
·碳源对硅片上产物形貌的影响 | 第33-36页 |
·碳源对反应管相同部位内壁产物形貌的影响 | 第36-39页 |
·石英反应管内壁不同区域产物形貌的比较 | 第39-41页 |
·HRTEM表征结果与讨论 | 第41-42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
第四章 反应温度对CVD反应产物形貌的影响 | 第43-52页 |
·反应温度对石英片上产物形貌的影响 | 第43-45页 |
·反应温度对硅片上产物形貌的影响 | 第45-47页 |
·反应温度对反应管相同部位内壁产物形貌的影响 | 第47-50页 |
·石英反应管内壁不同区域产物形貌的比较 | 第50-51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
第五章 覆网目数对CVD反应产物的影响 | 第52-56页 |
·SEM表征结果与讨论 | 第52-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
第六章 结论 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-61页 |
参加科研情况说明 | 第61-62页 |
附录1:英文缩写符号的全称及中文对照表 | 第62-63页 |
附录2:加热炉温度分布图 | 第63-64页 |
附录3:CVD反应产物表面副产物的SEM照片 | 第64-65页 |
致谢 | 第65页 |