用于粘接的AZ31镁合金表面阳极氧化和微弧氧化工艺研究
| 摘要 | 第1-12页 |
| ABSTRACT | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-32页 |
| ·镁合金的性能与应用 | 第14-15页 |
| ·镁合金阳极氧化概述 | 第15-20页 |
| ·镁合金阳极氧化的意义 | 第15-16页 |
| ·镁合金阳极氧化膜的生成机理 | 第16页 |
| ·镁合金阳极氧化膜的成分 | 第16-17页 |
| ·镁合金阳极氧化膜的结构 | 第17页 |
| ·镁合金阳极氧化工艺 | 第17-19页 |
| ·镁合金阳极氧化的应用 | 第19-20页 |
| ·镁合金微弧氧化概述 | 第20-27页 |
| ·镁合金微弧氧化膜的概念与特点 | 第20-22页 |
| ·微弧氧化技术的发展历史 | 第22页 |
| ·微弧氧化的研究现状及应用前景 | 第22-27页 |
| ·胶接技术概述 | 第27-29页 |
| ·粘接力的产生原因 | 第27页 |
| ·粘接力的影响因素 | 第27-28页 |
| ·胶接对镁合金表面的要求 | 第28页 |
| ·镁合金粘接的一般步骤 | 第28页 |
| ·胶缝的破坏形式 | 第28-29页 |
| ·存在的问题 | 第29页 |
| ·论文选题的立论、目的和意义 | 第29-30页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第30-32页 |
| 第二章 实验材料和试验方法 | 第32-38页 |
| ·实验材料 | 第32-33页 |
| ·镁合金试片 | 第32页 |
| ·主要化学试剂 | 第32页 |
| ·主要实验仪器 | 第32-33页 |
| ·试验方法 | 第33-35页 |
| ·前处理工艺 | 第33-34页 |
| ·氧化工艺 | 第34页 |
| ·微弧氧化工艺 | 第34-35页 |
| ·氧化膜性能测试 | 第35-38页 |
| ·外观检测 | 第35页 |
| ·膜层厚度测量 | 第35页 |
| ·表面电极电位测试 | 第35-36页 |
| ·单板拉剪试验 | 第36页 |
| ·SEM显微形貌观察 | 第36页 |
| ·XPS成分分析 | 第36-38页 |
| 第三章 镁合金阳极氧化膜成膜条件研究 | 第38-46页 |
| ·阳极氧化工艺的优化 | 第38-39页 |
| ·阳极氧化正交试验结果 | 第39-45页 |
| ·阳极氧化工艺极差分析 | 第40页 |
| ·阳极氧化膜的XPS分析 | 第40-42页 |
| ·阳极氧化膜的EDS分析 | 第42-43页 |
| ·阳极氧化膜的XRD分析 | 第43-44页 |
| ·阳极氧化膜的表面形貌 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 节能氧化膜工艺的研究 | 第46-54页 |
| ·节能氧化膜工艺的制定 | 第46-47页 |
| ·改进配方试验结果 | 第47-53页 |
| ·改进工艺的XPS分析 | 第47-49页 |
| ·改进工艺的EDS分析 | 第49-50页 |
| ·改进工艺的XRD分析 | 第50-51页 |
| ·改进工艺的表面形貌分析 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 镁合金微弧氧化膜成膜条件研究 | 第54-62页 |
| ·微弧氧化工艺的优化 | 第54-55页 |
| ·微弧氧化正交试验结果 | 第55-61页 |
| ·微弧氧化工艺极差分析 | 第55-56页 |
| ·微弧氧化工艺的XPS分析 | 第56-57页 |
| ·微弧氧化工艺的EDS分析 | 第57-58页 |
| ·微弧氧化工艺的XRD分析 | 第58-59页 |
| ·微弧氧化工艺的表面形貌分析 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 占空比对微弧氧化膜性粘接性能的进一步研究 | 第62-74页 |
| ·微弧氧化工艺配方的制定 | 第62-63页 |
| ·试验结果 | 第63-72页 |
| ·改进工艺的占空比、表面空隙率、粘接强度分析 | 第64-67页 |
| ·改进工艺的XPS分析 | 第67-70页 |
| ·改进工艺的EDS分析 | 第70-71页 |
| ·改进工艺的XRD分析 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 第七章 总结论 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第81-82页 |
| 作者和导师简介 | 第82-83页 |
| 北京化工大学硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第83-84页 |
