| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·纳米材料和纳米结构 | 第11-13页 |
| ·Au/SiO_2复合纳米结构研究概述 | 第13-16页 |
| ·SiO_2纳米线的制备及特性 | 第16-18页 |
| ·ZnO 纳米材料结构研究概述 | 第18-20页 |
| ·本文的选题依据和主要实验内容 | 第20-22页 |
| 第二章 实验设备与测试表征技术 | 第22-27页 |
| ·实验设备 | 第22-23页 |
| ·实验中所需要的主要材料和试剂 | 第23-24页 |
| ·样品的测试和表征 | 第24-27页 |
| 第三章 磁控溅射和退火法制备 Au 纳米点和 Au/SiO_2复合纳米薄膜 | 第27-32页 |
| ·Au/SiO_2复合纳米薄膜的制备 | 第27页 |
| ·Au/SiO_2复合薄膜的结构和形态特性 | 第27-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 第四章 磁控溅射+自组装制备 SiO_2纳米线 | 第32-38页 |
| ·SiO_2纳米线的制备 | 第32页 |
| ·SiO_2纳米线的表征及其特性分析 | 第32-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第五章 热 CVD 法生长 ZnO 纳米结构 | 第38-45页 |
| ·实验过程 | 第38页 |
| ·测试分析过程 | 第38-39页 |
| ·实验结果分析 | 第39-43页 |
| ·生长机制 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第六章 结论 | 第45-47页 |
| ·本文的主要研究结果 | 第45页 |
| ·对今后工作的建议 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-53页 |
| 攻读硕士期间发表文章 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |