光学玻璃磁流变抛光工艺试验研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 插图索引 | 第11-13页 |
| 附表索引 | 第13-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-22页 |
| ·研究背景 | 第14-15页 |
| ·光学玻璃抛光技术发展与现状 | 第15-16页 |
| ·磁流变液体发展与现状 | 第16-17页 |
| ·磁流变抛光技术发展与现状 | 第17-19页 |
| ·课题来源与研究意义 | 第19-20页 |
| ·课题研究意义 | 第19-20页 |
| ·课题来源 | 第20页 |
| ·论文研究内容 | 第20页 |
| ·论文创新点 | 第20-22页 |
| 第2章 磁流变抛光装置研制 | 第22-32页 |
| ·抛光装置分析 | 第22-23页 |
| ·旋转液槽盘式 | 第22页 |
| ·抛光轮形式 | 第22-23页 |
| ·抛光装置的发展 | 第23页 |
| ·抛光装置设计要求 | 第23-24页 |
| ·抛光原理与试验装置设计 | 第24-28页 |
| ·抛光原理 | 第24页 |
| ·试验装置设计 | 第24-28页 |
| ·设备及仪器 | 第28-30页 |
| ·试验方案的设计 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 磁流变抛光液的制备与性能分析 | 第32-47页 |
| ·磁流变液体的组成与磁流变效应分析 | 第32-33页 |
| ·磁流变液的组成 | 第32-33页 |
| ·磁流变液的流变效应分析 | 第33页 |
| ·磁流变液性能要求 | 第33-36页 |
| ·磁流变液整体性能要求 | 第33-34页 |
| ·磁流变液各组成成分性能要求 | 第34-36页 |
| ·磁流变抛光液的配置 | 第36-40页 |
| ·常见抛光用磁流变配方 | 第36-37页 |
| ·磁流变液组分选择 | 第37-40页 |
| ·磁流变抛光液的配置 | 第40页 |
| ·磁流变抛光液性能优化 | 第40-46页 |
| ·水分散失对抛光的影响 | 第40-42页 |
| ·抛光粉种类的影响 | 第42-44页 |
| ·载液的影响 | 第44页 |
| ·水油复合型磁流变抛光液的配置 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 磁流变抛光工艺试验与去除机理 | 第47-64页 |
| ·玻璃材料特性研究 | 第47-48页 |
| ·玻璃组成与分类 | 第47-48页 |
| ·玻璃性质 | 第48页 |
| ·抛光头形状对加工表面粗糙度的影响 | 第48-52页 |
| ·不同抛光时间下抛光头形状对表面粗糙度的影响 | 第49-50页 |
| ·不同磁极转速下抛光头形状对表面粗糙度的影响 | 第50页 |
| ·不同加工间隙下抛光头形状对表面粗糙度的影响 | 第50-51页 |
| ·不同磁场强度对表面粗糙度的影响 | 第51-52页 |
| ·试验结果 | 第52页 |
| ·参数优化正交选择试验 | 第52-60页 |
| ·最佳抛光时间的确定 | 第53-54页 |
| ·正交试验方案设计与结果 | 第54-57页 |
| ·正交试验法中四种抛光参数的影响分析 | 第57-60页 |
| ·最佳工艺参数组合的验证 | 第60页 |
| ·磁流变抛光去除机理研究 | 第60-63页 |
| ·玻璃抛光去除机理 | 第60-62页 |
| ·试验结果分析 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第5章 磁场有限元仿真与表面形貌特征分析 | 第64-76页 |
| ·磁场分布的有限元仿真分析 | 第64-66页 |
| ·磁场 ANSYS 分析步骤与仿真条件 | 第64-65页 |
| ·磁场仿真结果分析 | 第65-66页 |
| ·表面形貌特征分析 | 第66-68页 |
| ·抛光区表面形状特征 | 第66-68页 |
| ·中心区与内环抛光区三维形貌对比分析 | 第68页 |
| ·表面形貌形成机理分析 | 第68-71页 |
| ·磁场分布对磁流变抛光轮的影响 | 第69-70页 |
| ·磁极转速对抛光轮的影响 | 第70-71页 |
| ·磁流变抛光轮稳定结构数学理论分析模型的建立 | 第71-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 结论 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 附录 A（攻读学位期间发表的论文目录） | 第83-84页 |
| 附录 B（攻读学位期间参与的研究课题） | 第84页 |
