| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·Ti0_2 纳米管的基本特性及其应用 | 第8-12页 |
| ·光催化特性 | 第8-10页 |
| ·光电转换特性 | 第10-11页 |
| ·湿敏特性 | 第11-12页 |
| ·Ti0_2/Ti 纳米管阵列的制备方法 | 第12-17页 |
| ·模板合成法 | 第12-14页 |
| ·水热法 | 第14页 |
| ·阳极氧化法 | 第14-17页 |
| ·Ti0_2/FTO 纳米管(孔)阵列的研究现状 | 第17-18页 |
| ·本论文的研究目的和主要内容 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-24页 |
| 第二章 脉冲激光沉积(PLD)制备Ti0_2/FTO 薄膜 | 第24-36页 |
| ·脉冲激光沉积技术简介 | 第24-25页 |
| ·脉冲激光沉积原理 | 第25-27页 |
| ·脉冲激光沉积技术制备薄膜的特点 | 第27-28页 |
| ·靶衬间距对脉冲激光沉积薄膜均匀性的影响 | 第28-32页 |
| ·样品的制备及表征 | 第29-30页 |
| ·Ti0_2 薄膜样品照片表观灰度的分析 | 第30-31页 |
| ·靶衬间距对高速率沉积区的影响 | 第31-32页 |
| ·靶衬间距对薄膜均匀性影响的机理分析 | 第32-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-36页 |
| 第三章 P3HT/Ti0_2/FTO 纳米阵列复合结构的可控制备及整流特性研究 | 第36-49页 |
| ·阳极氧化法可控制备Ti0_2/Ti 薄膜 | 第37-41页 |
| ·多孔Ti0_2/Ti 阵列薄膜的制备及其形貌照片 | 第37-40页 |
| ·多孔 Ti0_2/Ti 阵列膜的形成机理 | 第40-41页 |
| ·阳极氧化 Ti/FTO 制备多孔 Ti0_2/FTO 薄膜 | 第41-43页 |
| ·样品的设计与制备 | 第41-42页 |
| ·结构表征 | 第42-43页 |
| ·多孔 Ti0_2/FTO 阵列膜的形成机理 | 第43-45页 |
| ·P3HT/Ti0_2/FTO 异质结纳米复合结构的 I-V 特性研究 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第四章 总结和展望 | 第49-50页 |
| 附录:攻读硕士期间发表和完成的研究论文目录 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51页 |
