| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| ·场致电子发射的研究现状 | 第9-16页 |
| ·场发射材料研究现状 | 第10-14页 |
| ·场发射理论研究现状 | 第14-16页 |
| ·本论文的课题背景及研究意义 | 第16-18页 |
| 参考文献 | 第18-22页 |
| 第二章 场致电子发射的基本理论 | 第22-36页 |
| ·固体表面势垒与电子发射 | 第23-30页 |
| ·金属热电子发射 | 第23-24页 |
| ·场致电子发射 | 第24-25页 |
| ·Fowler-Nordheim理论 | 第25-27页 |
| ·半导体场致电子发射 | 第27-30页 |
| ·影响场致电子发射的主要因素 | 第30-31页 |
| ·功函数 | 第30页 |
| ·场增强因子 | 第30-31页 |
| ·电子的输运过程 | 第31页 |
| ·场致电子发射的评价参数 | 第31-32页 |
| ·开启电场 | 第31页 |
| ·电流密度 | 第31-32页 |
| ·场发射电流稳定性 | 第32页 |
| ·场发射均匀性 | 第32页 |
| ·场发射测试系统 | 第32-34页 |
| ·真空系统 | 第33页 |
| ·场发射系统 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-36页 |
| 第三章 不同形貌的Ti0_2/Ti纳米管阵列的场发射特性研究 | 第36-45页 |
| ·Ti0_2/Ti纳米管阵列的研究现状及意义 | 第36页 |
| ·不同形貌的Ti0_2/Ti纳米管阵列的制备及表征 | 第36-40页 |
| ·不同形貌Ti0_2/Ti纳米管阵列的制备 | 第36-37页 |
| ·Ti0_2/Ti纳米管阵列的形貌结构 | 第37-39页 |
| ·Ti0_2/Ti纳米管阵列的XPS表征 | 第39页 |
| ·Ti0_2/Ti纳米管阵列膜的形成过程 | 第39-40页 |
| ·Ti0_2/Ti纳米管阵列的场致电子发射特性测试 | 第40-41页 |
| ·Ti0_2/Ti纳米管阵列的场致电子发射性能分析 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-45页 |
| 第四章 CNTs/Ti0_2/Ti纳米复合结构的制备及其场发射特性 | 第45-54页 |
| ·CNTs/Ti0_2/Ti纳米复合结构的研究意义 | 第45-46页 |
| ·CNTs/Ti0_2/Ti纳米复合结构的制备及表征 | 第46-48页 |
| ·CNTs/Ti0_2/Ti纳米复合结构的制备 | 第46-47页 |
| ·CNTs/Ti0_2/Ti纳米复合结构的形貌 | 第47-48页 |
| ·CNTs/Ti0_2/Ti纳米复合结构的Raman表征 | 第48页 |
| ·CNTs/Ti0_2/Ti纳米复合结构的场致电子发射性能测试 | 第48-50页 |
| ·CNTs/Ti0_2/Ti纳米复合结构场致电子发射性能分析 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第五章 总结和展望 | 第54-56页 |
| ·总结 | 第54页 |
| ·展望 | 第54-56页 |
| 附录攻读硕士期间发表和完成的研究论文目录 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
