微结构阳极X射线源制作关键工艺研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| 1.1 X射线源发展史 | 第8-10页 |
| 1.2 微结构阳极射线源研究现状 | 第10-12页 |
| 1.3 选题依据及意义 | 第12-13页 |
| 1.4 论文创新点 | 第13页 |
| 1.5 论文结构安排 | 第13-15页 |
| 第2章 微结构阳极X射线源基础理论 | 第15-24页 |
| 2.1 X射线管的结构 | 第15页 |
| 2.2 X射线产生原理 | 第15-19页 |
| 2.2.1 轫致辐射理论 | 第16-18页 |
| 2.2.2 特征辐射理论 | 第18-19页 |
| 2.3 结构阳极相关介绍 | 第19-23页 |
| 2.3.1 结构阳极制作意义 | 第19-22页 |
| 2.3.2 结构阳极的分类 | 第22-23页 |
| 2.4 本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 结构阳极制作方案设计 | 第24-34页 |
| 3.1 靶材选择 | 第24-25页 |
| 3.2 阳极结构设计 | 第25-26页 |
| 3.3 制作工艺选择 | 第26-31页 |
| 3.3.1 溶脱剥离工艺介绍 | 第27页 |
| 3.3.2 镀膜工艺选择 | 第27-30页 |
| 3.3.3 光刻胶选择 | 第30-31页 |
| 3.4 掩膜版设计与制作 | 第31-33页 |
| 3.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 光刻工艺研究 | 第34-41页 |
| 4.1 实验仪器及设备 | 第34页 |
| 4.2 实验材料与试剂 | 第34页 |
| 4.3 光刻实验步骤 | 第34-35页 |
| 4.4 光刻工艺参数研究 | 第35-40页 |
| 4.4.1 曝光时间对实验结果的影响 | 第35-36页 |
| 4.4.2 前烘温度对实验结果的影响 | 第36-38页 |
| 4.4.3 后烘温度对实验结果的影响 | 第38-40页 |
| 4.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第5章 薄膜沉积及溶脱剥离工艺研究 | 第41-52页 |
| 5.1 磁控溅射基本原理 | 第41-42页 |
| 5.2 溅射镀膜实验及分析 | 第42-45页 |
| 5.2.1 实验材料及设备 | 第42页 |
| 5.2.2 实验操作步骤 | 第42-44页 |
| 5.2.3 钨膜生长规律分析 | 第44-45页 |
| 5.3 溶脱剥离实验及结果分析 | 第45-51页 |
| 5.3.1 溶脱剥离实验结果分析 | 第45-49页 |
| 5.3.2 钨阵列电镜图 | 第49-51页 |
| 5.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第6章 总结与展望 | 第52-54页 |
| 6.1 工作总结 | 第52页 |
| 6.2 展望 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 附录Ⅰ | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
