中文摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4页 |
第一章 前言 | 第8-14页 |
1.1 安氏Ⅱ类错牙合的临床表现及治疗 | 第8-9页 |
1.1.1 安氏Ⅱ类Ⅰ分类 | 第8-9页 |
1.1.2 安氏Ⅱ类Ⅱ分类 | 第9页 |
1.1.3 治疗 | 第9页 |
1.2 推磨牙远移的研究进展 | 第9-12页 |
1.2.1 推磨牙向远中移动的生物学基础 | 第9-10页 |
1.2.2 推磨牙远移的常用装置 | 第10-12页 |
1.3 三维有限元法在口腔生物力学研究领域中的应用 | 第12-14页 |
1.3.1 有限元的原理 | 第12-13页 |
1.3.2 三维有限元分析数字化模型的获得方法 | 第13-14页 |
第二章 不同支抗形式的改良式磨牙推进器推磨牙远移的三维有限元对比分析 | 第14-25页 |
2.1 材料及方法 | 第14-17页 |
2.1.1 样本选择 | 第14页 |
2.1.2 上颌复合体三维有限元模型的建立 | 第14-15页 |
2.1.3 改良式磨牙推进器模型的建立 | 第15页 |
2.1.4 设定参数 | 第15-16页 |
2.1.5 网格划分 | 第16页 |
2.1.6 定义材料接触关系 | 第16页 |
2.1.7 空间坐标系的建立 | 第16-17页 |
2.1.8 载荷设置 | 第17页 |
2.2 实验结果 | 第17-23页 |
2.2.1 第一磨牙的位移 | 第17-18页 |
2.2.2 支抗牙的位移 | 第18-19页 |
2.2.3 中切牙的位移 | 第19-20页 |
2.2.4 侧切牙的位移 | 第20-21页 |
2.2.5 第一磨牙所受Von-mises应力 | 第21页 |
2.2.6 支抗牙所受Von-mises应力 | 第21-22页 |
2.2.7 中切牙所受Von-mises应力 | 第22页 |
2.2.8 侧切牙所受Von-mises应力 | 第22-23页 |
2.3 实验结果分析 | 第23-24页 |
2.4 讨论 | 第24-25页 |
第三章 不同支抗形式新型磨牙推进装置的三维有限元对比分析 | 第25-37页 |
3.1 材料及方法 | 第25-27页 |
3.1.1 上颌骨复合体三维有限元模型的建立 | 第25页 |
3.1.2 新型磨牙推进装置的三维有限元模型的建立 | 第25-26页 |
3.1.3 网格划分 | 第26页 |
3.1.4 定义材料接触关系 | 第26-27页 |
3.1.5 载荷设置 | 第27页 |
3.2 实验结果 | 第27-33页 |
3.2.1 第一磨牙的位移 | 第27-28页 |
3.2.2 第一前磨牙的位移 | 第28-29页 |
3.2.3 中切牙的位移 | 第29-30页 |
3.2.4 侧切牙的位移 | 第30-31页 |
3.2.5 第一磨牙所受Von-mises应力 | 第31页 |
3.2.6 第一前磨牙所受Von-mises应力 | 第31-32页 |
3.2.7 中切牙所受Von-mises应力 | 第32页 |
3.2.8 侧切牙所受Von-mises应力 | 第32-33页 |
3.3 实验结果分析 | 第33-34页 |
3.4 讨论 | 第34-37页 |
3.4.1 腭侧种植体支抗植入的位置选择 | 第35页 |
3.4.2 第二磨牙的萌出对第一磨牙远移的影响 | 第35-37页 |
参考文献 | 第37-41页 |
在学期间的研究成果 | 第41-42页 |
致谢 | 第42-43页 |
病例汇报 | 第43-48页 |