摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
缩写语对照表 | 第12-13页 |
1 绪论 | 第13-33页 |
1.1 课题背景 | 第13-14页 |
1.2 淡化脱盐技术现状 | 第14-15页 |
1.3 电容去离子技术概况 | 第15-21页 |
1.3.1 CDI技术的发展进程 | 第16-18页 |
1.3.2 CDI技术的离子扩散及吸附理论 | 第18-21页 |
1.4 CDI技术的关键—电极材料 | 第21-29页 |
1.4.1 活性炭 | 第21-22页 |
1.4.2 有序介孔碳材料 | 第22-24页 |
1.4.3 碳气凝胶 | 第24页 |
1.4.4 碳纳米管 | 第24-25页 |
1.4.5 石墨烯 | 第25-27页 |
1.4.6 多孔碳纳米球 | 第27页 |
1.4.7 其他碳材料 | 第27-28页 |
1.4.8 CDI电极材料现状总结分析 | 第28-29页 |
1.5 课题的提出与研究思路 | 第29-33页 |
1.5.1 课题的提出 | 第29-31页 |
1.5.2 课题研究思路 | 第31-33页 |
2 基于嵌段共聚物制备氮掺杂等级多孔碳及其电容去离子性能 | 第33-58页 |
2.1 引言 | 第33-34页 |
2.2 实验部分 | 第34-42页 |
2.2.1 实验仪器及试剂 | 第34-35页 |
2.2.2 嵌段共聚物PEO-b-PS的合成 | 第35-36页 |
2.2.3 氮掺杂等级多孔碳的制备 | 第36-37页 |
2.2.4 材料表征 | 第37-38页 |
2.2.5 电化学测试 | 第38-39页 |
2.2.6 电容去离子性能评价 | 第39-42页 |
2.3 结果与讨论 | 第42-57页 |
2.3.1 PEO-b-PS的表征分析 | 第42-44页 |
2.3.2 N-HPC的表征分析 | 第44-50页 |
2.3.3 N-HPC的电化学性能评价 | 第50-52页 |
2.3.4 N-HPC的CDI性能评价 | 第52-57页 |
2.4 本章小结 | 第57-58页 |
3 氮掺杂中空介孔碳纳米球的制备及其电容去离子性能 | 第58-75页 |
3.1 引言 | 第58-59页 |
3.2 实验部分 | 第59-62页 |
3.2.1 实验仪器及试剂 | 第59-60页 |
3.2.2 三种碳纳米球的制备 | 第60-61页 |
3.2.3 材料表征 | 第61页 |
3.2.4 电化学测试 | 第61页 |
3.2.5 电容去离子性能研究 | 第61-62页 |
3.3 结果与讨论 | 第62-74页 |
3.3.1 N-HMCSs的表征分析 | 第62-68页 |
3.3.2 N-HMCSs的电化学性能评价 | 第68-70页 |
3.3.3 N-HMCSs的CDI性能评价 | 第70-74页 |
3.4 本章小节 | 第74-75页 |
4 氮掺杂簇状多孔碳的构筑及其电容去离子性能 | 第75-94页 |
4.1 引言 | 第75-76页 |
4.2 实验部分 | 第76-78页 |
4.2.1 实验仪器及试剂 | 第76页 |
4.2.2 氮掺杂簇状多孔碳的制备 | 第76-77页 |
4.2.3 材料表征 | 第77页 |
4.2.4 电化学测试 | 第77页 |
4.2.5 电容去离子性能研究 | 第77-78页 |
4.3 结果与讨论 | 第78-92页 |
4.3.1 NCPCs的表征分析 | 第78-86页 |
4.3.2 NCPCs的电化学性能评价 | 第86-89页 |
4.3.3 NCPCs的CDI性能评价 | 第89-92页 |
4.4 本章小结 | 第92-94页 |
5 质子盐衍生碳的制备及其电容去离子性能 | 第94-114页 |
5.1 引言 | 第94-95页 |
5.2 实验部分 | 第95-97页 |
5.2.1 实验仪器及试剂 | 第95页 |
5.2.2 质子盐衍生碳的制备 | 第95-96页 |
5.2.3 材料表征 | 第96页 |
5.2.4 电化学测试 | 第96页 |
5.2.5 电容去离子性能研究 | 第96-97页 |
5.3 结果与讨论 | 第97-112页 |
5.3.1 PSCs的表征分析 | 第97-104页 |
5.3.2 PSCs的电化学性能评价 | 第104-106页 |
5.3.3 PSCs的CDI性能评价 | 第106-110页 |
5.3.4 四种多孔碳CDI电极的综合对比分析 | 第110-112页 |
5.4 本章小结 | 第112-114页 |
6 结论与展望 | 第114-117页 |
6.1 结论 | 第114-115页 |
6.2 创新点 | 第115页 |
6.3 不足与展望 | 第115-117页 |
致谢 | 第117-119页 |
参考文献 | 第119-138页 |
附录 | 第138-139页 |