| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 常见电子源及发射原理 | 第10-14页 |
| 1.2.1 光致发射阴极 | 第10-11页 |
| 1.2.2 次级发射体 | 第11页 |
| 1.2.3 热发射阴极 | 第11-12页 |
| 1.2.4 场致发射电子源 | 第12-14页 |
| 1.3 场发射阴极材料 | 第14-18页 |
| 1.3.1 金属微尖阵列材料 | 第14页 |
| 1.3.2 金刚石、类金刚石材料 | 第14-15页 |
| 1.3.3 金属氧化物 | 第15页 |
| 1.3.4 碳纳米管及其复合材料 | 第15-18页 |
| 1.4 碳纳米管的场发射机理 | 第18-19页 |
| 1.4.1 局域电场增强机理 | 第18页 |
| 1.4.2 缺陷发射机理 | 第18-19页 |
| 1.5 碳纳米管阴极存在的缺陷 | 第19-20页 |
| 1.6 本论文研究的主要内容 | 第20-22页 |
| 1.6.1 本论文的研究意义 | 第20页 |
| 1.6.2 本论文的创新点及主要研究内容 | 第20-22页 |
| 2 碳纳米管块体复合材料的制备及表征 | 第22-36页 |
| 2.1 实验原料、设备及技术路线 | 第22-24页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第22页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第22-23页 |
| 2.1.3 技术路线 | 第23-24页 |
| 2.2 干法高能球磨制备碳纳米管块体复合材料及表征 | 第24-28页 |
| 2.2.1 材料的制备 | 第24-25页 |
| 2.2.2 材料的表征 | 第25-28页 |
| 2.3 湿法高能球磨制备碳纳米管块体复合材料及表征 | 第28-31页 |
| 2.3.1 材料的制备 | 第28-29页 |
| 2.3.2 材料的表征 | 第29-31页 |
| 2.4 超声搅拌法制备碳纳米管块体复合材料及表征 | 第31-34页 |
| 2.4.1 材料的制备 | 第32-33页 |
| 2.4.2 材料的表征 | 第33-34页 |
| 2.5 X射线衍射仪对烧结样品的分析 | 第34-35页 |
| 2.6 本章小结 | 第35-36页 |
| 3 碳纳米管块体复合材料的电子发射特性 | 第36-51页 |
| 3.1 场发射测试系统 | 第36-37页 |
| 3.2 高能球磨法制备的块体碳纳米管复合阴极场发射特性 | 第37-47页 |
| 3.2.1 烧结温度对块体碳纳米管复合阴极场发射性能的影响 | 第37-39页 |
| 3.2.2 碳纳米管含量对块体碳纳米管复合阴极场发射性能的影响 | 第39-44页 |
| 3.2.3 碳纳米管种类、球磨方法对块体阴极场发射性能的影响 | 第44-45页 |
| 3.2.4 硝酸处理对块体碳纳米管复合阴极的场发射性能的影响 | 第45-47页 |
| 3.3 超声搅拌法制备的块体碳纳米管复合阴极的场发射特性 | 第47-48页 |
| 3.3.1 不同碳纳米管含量的块体碳纳米管复合阴极的场发射性能 | 第47页 |
| 3.3.2 三种不同方法制备的阴极的场发射性能比较 | 第47-48页 |
| 3.4 本章讨论分析与结论 | 第48-51页 |
| 3.4.1 讨论分析 | 第48-49页 |
| 3.4.2 本章小结 | 第49-51页 |
| 4 碳纳米管块体复合阴极的场发射稳定性 | 第51-59页 |
| 4.1 碳纳米管的块体阴极与薄膜阴极场发射性能的简单比较 | 第51-53页 |
| 4.1.1 碳纳米管的块体阴极与薄膜阴极场发射性能对比 | 第51-52页 |
| 4.1.2 机理分析 | 第52-53页 |
| 4.2 短期效应的场发射电流稳定性 | 第53-56页 |
| 4.2.1 测试要求 | 第53页 |
| 4.2.2 测试数据及分析 | 第53-56页 |
| 4.3 长期效应的场发射电流稳定性 | 第56-58页 |
| 4.3.1 测试要求 | 第56页 |
| 4.3.2 测试数据及分析 | 第56-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 5 总结与展望 | 第59-61页 |
| 全文总结 | 第59-60页 |
| 展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 作者简介 | 第67页 |
