| 摘要 | 第9-11页 |
| Abstract | 第11-13页 |
| 第一章 绪论 | 第14-46页 |
| 1.1 引言 | 第14-15页 |
| 1.2 卟啉化合物的简介及其应用 | 第15-23页 |
| 1.2.1 卟啉化合物的简介 | 第15-17页 |
| 1.2.2 卟啉化合物的应用 | 第17-21页 |
| 1.2.3 卟啉化合物的研究现状 | 第21-23页 |
| 1.3 二氧化钛 | 第23-29页 |
| 1.3.1 二氧化钛结构和性质简介 | 第23-25页 |
| 1.3.2 一维二氧化钛纳米材料的制备方法 | 第25-26页 |
| 1.3.3 二氧化钛纳米材料的改性方法 | 第26-29页 |
| 1.4 碳基材料 | 第29-30页 |
| 1.5 扫描电化学显微镜(SECM) | 第30-36页 |
| 1.5.1 SECM的简介 | 第30-32页 |
| 1.5.2 SECM的工作原理 | 第32-33页 |
| 1.5.3 SECM的工作模式 | 第33页 |
| 1.5.4 SECM的应用 | 第33-36页 |
| 1.6 本课题的整体构想及研究内容 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-46页 |
| 第二章 对形态依赖性TCPP-AGG/RGO/Pt纳米复合材料增强光催化活性研究的新视角 | 第46-76页 |
| 2.1 前言 | 第46-48页 |
| 2.2 实验部分 | 第48-55页 |
| 2.2.1 试剂 | 第48页 |
| 2.2.2 仪器 | 第48-49页 |
| 2.2.3 表征分析手段 | 第49页 |
| 2.2.4 材料的制备合成 | 第49-51页 |
| 2.2.5 ITO电极的制备 | 第51-53页 |
| 2.2.6 电化学测试 | 第53页 |
| 2.2.7 光电化学测试 | 第53-54页 |
| 2.2.8 SECM测试 | 第54页 |
| 2.2.9 光催化测试 | 第54-55页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第55-70页 |
| 2.3.1 还原氧化石墨烯和氧化石墨烯的X-射线衍射(XRD)表征 | 第55页 |
| 2.3.2 还原氧化石墨烯和氧化石墨烯的拉曼表征 | 第55-56页 |
| 2.3.3 RGO修饰的ITO的电化学表征 | 第56-57页 |
| 2.3.4 材料的傅立叶红外(FT_IR)表征 | 第57页 |
| 2.3.5 材料的SEM和AFM表征 | 第57-59页 |
| 2.3.6 材料的XRD(X射线衍射)分析 | 第59-60页 |
| 2.3.7 材料的紫外吸收光谱和荧光光谱的表征 | 第60-62页 |
| 2.3.8 材料的阻抗(EIS)表征 | 第62-63页 |
| 2.3.9 不同材料的i-tcurve测试 | 第63-64页 |
| 2.3.10 强度调制光电流谱(IMPS)分析 | 第64-65页 |
| 2.3.11 SECM测试 | 第65-69页 |
| 2.3.12 光催化研究 | 第69-70页 |
| 2.4 小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 第三章 超分子光捕获体：表面改性的TiO_2NR通过金属配体配位作用固定敏化剂的制备及其光电化学研究 | 第76-101页 |
| 3.1 前言 | 第76-77页 |
| 3.2 实验部分 | 第77-86页 |
| 3.2.1 试剂 | 第77-78页 |
| 3.2.2 仪器 | 第78-79页 |
| 3.2.3 材料的制备合成 | 第79-84页 |
| 3.2.4 光电化学测试 | 第84页 |
| 3.2.5 SECM测试 | 第84-86页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第86-96页 |
| 3.3.1 材料的SEM和XRD表征 | 第86-87页 |
| 3.3.2 UV?visDRS表征及分析 | 第87-88页 |
| 3.3.3 CV和UV-vis紫外光谱 | 第88-90页 |
| 3.3.4 光电流响应测试及分析 | 第90-91页 |
| 3.3.5 不同材料的电化学阻抗测试(EIS)测试 | 第91-92页 |
| 3.3.6 强度调制光电流谱(IMPS)测试 | 第92-93页 |
| 3.3.7 SECM测试 | 第93-96页 |
| 3.4 小结 | 第96-97页 |
| 参考文献 | 第97-101页 |
| 第四章 N/Si共掺杂TiO_2NRs/MTCPPs的界面光诱导电子转移行为的研究 | 第101-122页 |
| 4.1 前言 | 第101-103页 |
| 4.2 实验部分 | 第103-108页 |
| 4.2.1 试剂 | 第103页 |
| 4.2.2 仪器 | 第103-104页 |
| 4.2.3 金属卟啉(M=Fe,Co,Ni)的制备 | 第104-105页 |
| 4.2.4 材料的制备 | 第105-107页 |
| 4.2.5 光电化学测试 | 第107页 |
| 4.2.6 SECM测试 | 第107-108页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第108-117页 |
| 4.3.1 材料的SEM和XRD表征 | 第108-109页 |
| 4.3.2 金属卟啉的紫外吸收光谱表征 | 第109-110页 |
| 4.3.3 金属卟啉的傅立叶红外(FT-IR)表征 | 第110页 |
| 4.3.4 材料的DRS的表征 | 第110-112页 |
| 4.3.5 光电流响应测试 | 第112-114页 |
| 4.3.6 SECM测试 | 第114-117页 |
| 4.4 小结 | 第117-118页 |
| 参考文献 | 第118-122页 |
| 在读硕士期间的成果 | 第122-123页 |
| 致谢 | 第123页 |
