基于长余辉纳米粒子的荧光成像技术研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 符号对照表 | 第11-12页 |
| 缩略语对照表 | 第12-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-22页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第16-17页 |
| 1.2 光学成像技术和长余辉材料发展 | 第17-20页 |
| 1.3 论文的主要内容和章节安排 | 第20-22页 |
| 第二章 荧光成像系统设计与性能测试 | 第22-44页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 荧光成像系统整体设计 | 第22-23页 |
| 2.3 荧光成像系统各模块组成 | 第23-30页 |
| 2.3.1 激发模块 | 第23-25页 |
| 2.3.2 采集模块 | 第25-27页 |
| 2.3.3 控制模块 | 第27页 |
| 2.3.4 硬件模块集成安装 | 第27-28页 |
| 2.3.5 数据处理模块 | 第28-30页 |
| 2.3.6 各模块组合系统集成 | 第30页 |
| 2.4 荧光成像系统性能分析与测试 | 第30-39页 |
| 2.4.1 成像系统中噪声来源分析 | 第31-38页 |
| 2.4.2 成像暗箱性能测试 | 第38-39页 |
| 2.5 提高成像质量的方法 | 第39-43页 |
| 2.5.1 使用电子倍增 | 第39-41页 |
| 2.5.2 增加曝光时间 | 第41-42页 |
| 2.5.3 使用Binning | 第42-43页 |
| 2.6 本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 基于长余辉纳米粒子的光学成像 | 第44-64页 |
| 3.1 引言 | 第44页 |
| 3.2 长余辉发光材料的处理及光学性质测试 | 第44-51页 |
| 3.3 长余辉荧光成像与传统激发荧光成像性能对比 | 第51-57页 |
| 3.3.1 分辨率分析 | 第51-54页 |
| 3.3.2 信背比分析 | 第54-57页 |
| 3.4 动态长余辉荧光成像与受体分子定量 | 第57-62页 |
| 3.4.1 动态光学成像技术 | 第57-58页 |
| 3.4.2 动力学模型介绍 | 第58-59页 |
| 3.4.3 动态荧光成像实验及数据分析 | 第59-62页 |
| 3.5 本章小结 | 第62-64页 |
| 第四章 单角度长余辉荧光断层成像 | 第64-76页 |
| 4.1 引言 | 第64页 |
| 4.2 长余辉断层成像正向问题 | 第64-69页 |
| 4.2.1 辐射传输方程 | 第64-66页 |
| 4.2.2 扩散方程模型求解 | 第66-68页 |
| 4.2.3 长余辉断层重建方法 | 第68-69页 |
| 4.3 单角度长余辉荧光断层成像实验验证 | 第69-74页 |
| 4.3.1 实验方案流程设计 | 第69页 |
| 4.3.2 仿体成像实验验证 | 第69-72页 |
| 4.3.3 活体成像实验验证 | 第72-74页 |
| 4.4 本章小结 | 第74-76页 |
| 第五章 总结与展望 | 第76-78页 |
| 5.1 本文工作总结 | 第76-77页 |
| 5.2 工作展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-84页 |
| 致谢 | 第84-87页 |
| 作者简介 | 第87-88页 |
