| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1. 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1. 前言 | 第11页 |
| 1.2. 超疏水界面的研究 | 第11-17页 |
| 1.2.1. 自然界中的超疏水 | 第12-13页 |
| 1.2.2. 超疏水机理的研究 | 第13-16页 |
| 1.2.3. 超疏水界面的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.3. 超疏水与微流控 | 第17-20页 |
| 1.4. 喷墨打印与图形化界面的制备 | 第20-22页 |
| 1.4.1. 喷墨打印技术 | 第20-21页 |
| 1.4.2. 喷墨打印技术的应用 | 第21-22页 |
| 1.5. 三维仿生微结构薄膜在生物细胞培养上的应用 | 第22-23页 |
| 1.5.1. 3-D生物细胞培养技术 | 第22页 |
| 1.5.2. 微米结构超疏水薄膜与生物细胞培养 | 第22-23页 |
| 1.6. 研究课题的提出与研究方向 | 第23-25页 |
| 1.6.1. 研究课题的提出 | 第23-24页 |
| 1.6.2. 实验方案 | 第24-25页 |
| 2. 基于微米阵列结构的聚合物薄膜的制备 | 第25-40页 |
| 2.1. 引言 | 第25页 |
| 2.2. 实验部分 | 第25-32页 |
| 2.2.1. 实验原料与仪器 | 第25-26页 |
| 2.2.2. 硅模板的抗粘处理 | 第26-27页 |
| 2.2.3. MSPF薄膜的制备 | 第27-28页 |
| 2.2.4. ETEF-MSPF薄膜的制备 | 第28-30页 |
| 2.2.5. 疏水薄膜性能表征方法 | 第30-32页 |
| 2.3. 实验结果与讨论 | 第32-38页 |
| 2.3.1. 硅母模板疏水处理 | 第32-33页 |
| 2.3.2. 紫外压印中外压对柱高影响的讨论 | 第33-34页 |
| 2.3.3. MSPF薄膜性能的表征 | 第34-36页 |
| 2.3.4. MSPF薄膜与ETEF-MSPF薄膜性能对比 | 第36-38页 |
| 2.4. 本章小结 | 第38-40页 |
| 3. 图形化疏水-亲水薄膜的制备及性能表征 | 第40-59页 |
| 3.1. 引言 | 第40-41页 |
| 3.2. 实验部分 | 第41-47页 |
| 3.2.1. 实验原料与仪器 | 第41-42页 |
| 3.2.2. 掩膜法制备超亲水-超疏水薄膜 | 第42-43页 |
| 3.2.3. 基于喷墨打印技术制备图形化亲水-疏水薄膜 | 第43-45页 |
| 3.2.4. 图形化亲疏水薄膜的性能表征 | 第45-47页 |
| 3.3. 实验结果与讨论 | 第47-59页 |
| 3.3.1. 掩膜法制备的PSSIF中超疏水区域与超亲水区域性能对比 | 第47-50页 |
| 3.3.2. 亲水树脂墨水浓度对喷墨打印效果的影响 | 第50-51页 |
| 3.3.3. 喷头温度对喷墨打印效果的影响 | 第51-52页 |
| 3.3.4. PSSIF亲水区域接触角的可控性调节 | 第52-56页 |
| 3.3.5. 喷墨打印制备图形化亲水区域 | 第56-59页 |
| 4. 图形化超疏水-超亲水薄膜在纳米颗粒分离筛选中的应用 | 第59-75页 |
| 4.1. 引言 | 第59页 |
| 4.2. 实验部分 | 第59-64页 |
| 4.2.1. 实验原料与仪器 | 第59-61页 |
| 4.2.2. 超亲水薄膜分离石墨烯碎片 | 第61页 |
| 4.2.3. 超亲水薄膜引流量子点溶液 | 第61-62页 |
| 4.2.4. 喷墨打印制备微流道 | 第62-63页 |
| 4.2.5. 量子点的表征 | 第63-64页 |
| 4.3. 实验结果与讨论 | 第64-75页 |
| 4.3.1. 超亲水3-D滤膜对石墨烯碎片的分离 | 第64-69页 |
| 4.3.2. 超亲水3-D滤膜对无机量子点的分离 | 第69-71页 |
| 4.3.3. 微流道性能分析 | 第71-75页 |
| 5. 微结构薄膜在三维生物细胞培养上的应用 | 第75-92页 |
| 5.1. 引言 | 第75页 |
| 5.2 实验部分 | 第75-79页 |
| 5.2.1. 实验原料与仪器 | 第75-76页 |
| 5.2.2. 不同结构薄膜的制备 | 第76-77页 |
| 5.2.3. 293T细胞的培养 | 第77-78页 |
| 5.2.4. 生物细胞的表征方法 | 第78-79页 |
| 5.3. 实验结果与讨论 | 第79-92页 |
| 6. 结论与展望 | 第92-94页 |
| 6.1. 实验结论总结 | 第92页 |
| 6.2. 主要创新点 | 第92-93页 |
| 6.3. 工作展望 | 第93-94页 |
| 致谢 | 第94-96页 |
| 参考文献 | 第96-107页 |
| 附录 | 第107页 |
