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旺高污水厂平板陶瓷膜工艺控制和膜污染清洗技术研究

摘要第2-3页
abstract第3-4页
主要符号对照表第8-9页
第1章 绪论第9-25页
    1.1 课题背景第9-10页
        1.1.1 工艺需求第9-10页
        1.1.2 工程项目第10页
    1.2 陶瓷膜水处理工艺第10-17页
        1.2.1 MBR水处理工艺第10-13页
        1.2.2 与传统水处理工艺的比较第13-14页
        1.2.3 陶瓷膜技术第14-15页
        1.2.4 工艺研究和应用现状第15-17页
    1.3 自动控制技术在环保领域的应用第17-18页
    1.4 膜污染机理和清洗方法第18-23页
        1.4.1 影响膜污染的因素第18-21页
        1.4.2 膜污染清洗方法第21-23页
    1.5 本文的研究目的、技术路线和主要内容第23-25页
        1.5.1 研究目的第23-24页
        1.5.2 技术路线第24页
        1.5.3 研究内容第24-25页
第2章 材料、装置和方法第25-35页
    2.1 自控系统技术方法第25-30页
        2.1.1 SCADA控制系统第25-26页
        2.1.2 WinCC组态软件第26-28页
        2.1.3 本课题项目的控制系统第28-30页
    2.2 陶瓷膜运行特性第30-33页
        2.2.1 表征膜污染的参数第30-32页
        2.2.2 膜污染的过程特点第32页
        2.2.3 本课题陶瓷膜膜污染的研究方法第32-33页
    2.3 本课题膜污染清洗实验装置、材料和方法第33-35页
        2.3.1 膜清洗实验器材第33页
        2.3.2 膜清洗实验装置第33-34页
        2.3.3 膜清洗实验方法第34-35页
第3章 陶瓷膜处理工艺自动控制系统的设计第35-49页
    3.1 系统总体设计第35-39页
        3.1.1 污水厂处理工艺第35页
        3.1.2 控制系统需求分析第35-37页
        3.1.3 控制系统总体结构第37-39页
    3.2 系统控制层的设计和实现第39-42页
    3.3 系统监视层的设计和实现第42-46页
    3.4 控制系统的调试第46-47页
    3.5 本章小结第47-49页
第4章 陶瓷膜处理工艺运行状况分析第49-56页
    4.1 陶瓷膜运行过程中膜污染的形成第49-50页
        4.1.1 自控系统记录的陶瓷膜污染发展状况第49-50页
        4.1.2 陶瓷膜污染的发展过程第50页
    4.2 系统运行控制参数的优化第50-55页
        4.2.1 产水时长对膜污染发展的影响第50-53页
        4.2.2 膜通量对膜污染发展的影响第53-55页
    4.3 本章小结第55-56页
第5章 陶瓷膜污染清洗方式研究第56-73页
    5.1 陶瓷膜的污染状况第56-57页
    5.2 陶瓷膜污染机理分析和实验室清洗方法研究第57-70页
        5.2.1 膜污染原因分析第57-58页
        5.2.2 陶瓷膜清洗方式的选择实验第58-59页
        5.2.3 陶瓷膜清洗结果分析第59-68页
        5.2.4 陶瓷膜清洗实验结果综合讨论第68-70页
    5.3 陶瓷膜清洗效果验证第70-72页
        5.3.1 清洗方式第70页
        5.3.2 清洗效果第70-72页
    5.4 本章小结第72-73页
第6章 结论和建议第73-75页
    6.1 结论第73-74页
    6.2 建议第74-75页
参考文献第75-80页
致谢第80-82页
附录 A 专业实践总结摘要第82-88页
    A.1 实践基本信息第82页
    A.2 实践目的和意义第82-83页
        A.2.1 目的第82-83页
        A.2.2 意义第83页
    A.3 实践内容第83-86页
    A.4 实践计划执行情况第86页
        A.4.1 实践计划第86页
        A.4.2 执行情况第86页
    A.5 实践成果和总结第86-88页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第88页

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