IPMC应变分布的DIC分析及其力电耦合模型研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 IPMC的驱动机理及制备工艺 | 第13-16页 |
| 1.2.1 驱动机理 | 第13-14页 |
| 1.2.2 制备工艺 | 第14-16页 |
| 1.3 IPMC的性能测试与力学模型 | 第16-19页 |
| 1.3.1 性能测试 | 第16-18页 |
| 1.3.2 力学模型 | 第18-19页 |
| 1.4 实验力学中的数字图像相关方法 | 第19-22页 |
| 1.4.1 DIC方法的发展 | 第20页 |
| 1.4.2 DIC方法的基本原理 | 第20-22页 |
| 1.5 本文主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 铂型IPMC的制备和表征 | 第24-37页 |
| 2.1 离子交换膜的制备 | 第24-26页 |
| 2.2 铂型IPMC的制备 | 第26页 |
| 2.3 铂型IPMC的表征 | 第26-36页 |
| 2.3.1 形貌表征 | 第27-28页 |
| 2.3.2 基本力电参数测试 | 第28-32页 |
| 2.3.3 电致变形测试 | 第32-34页 |
| 2.3.4 尺寸效应 | 第34-36页 |
| 2.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 铂型IPMC应变分布的DIC分析 | 第37-57页 |
| 3.1 DIC测试原理及测试系统 | 第37-40页 |
| 3.1.1 DIC测试原理 | 第37-39页 |
| 3.1.2 DIC测试系统 | 第39-40页 |
| 3.2 IPMC的DIC测试与分析方法 | 第40-45页 |
| 3.2.1 来自图像采集系统的误差 | 第40-42页 |
| 3.2.2 来自计算分析系统的误差 | 第42-45页 |
| 3.3 直流电压激励下IPMC的位移与应变分布 | 第45-48页 |
| 3.3.1 位移分布 | 第45-46页 |
| 3.3.2 应变分布 | 第46-48页 |
| 3.4 交流电压激励下IPMC的位移与应变分布 | 第48-52页 |
| 3.4.1 位移分布 | 第48-49页 |
| 3.4.2 应变分布 | 第49-52页 |
| 3.5 IPMC的主应变和应变梯度 | 第52-55页 |
| 3.5.1 主应变分布 | 第52-53页 |
| 3.5.2 应变梯度 | 第53-55页 |
| 3.6 本章小结 | 第55-57页 |
| 第四章 基于DIC分析的IPMC力电耦合模型 | 第57-65页 |
| 4.1 IPMC的非线性变形行为 | 第57-59页 |
| 4.2 IPMC力电耦合模型的建立 | 第59-62页 |
| 4.2.1 IPMC的RC分布式等效电路模型 | 第59-60页 |
| 4.2.2 IPMC的力电耦合特性 | 第60-61页 |
| 4.2.3 力电耦合模型的推导 | 第61-62页 |
| 4.3 IPMC力电耦合模型的验证 | 第62-64页 |
| 4.3.1 模型参数的确定 | 第62-63页 |
| 4.3.2 实验与模型计算结果的对比 | 第63-64页 |
| 4.4 本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 5.1 研究工作总结 | 第65-66页 |
| 5.2 研究工作的创新及贡献 | 第66页 |
| 5.3 存在的问题及展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第74页 |
