日盲探测宽波段低噪声滤波器件的研制
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 本课题的研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-11页 |
| 1.3 本课题的主要研究内容 | 第11-12页 |
| 第二章 薄膜光学理论 | 第12-20页 |
| 2.1 薄膜光学基础理论 | 第12-16页 |
| 2.2 法布里-珀珞滤光片 | 第16-18页 |
| 2.3 光学薄膜的吸收 | 第18-20页 |
| 2.3.1 单光子吸收 | 第18-19页 |
| 2.3.2 自由电子吸收 | 第19-20页 |
| 第三章 膜系设计 | 第20-35页 |
| 3.1 技术指标 | 第20页 |
| 3.2 紫外材料的特性研究 | 第20-25页 |
| 3.2.1 基底材料 | 第20-21页 |
| 3.2.2 薄膜材料 | 第21-25页 |
| 3.3 薄膜材料光学常数的计算 | 第25-30页 |
| 3.3.1 介质材料的光学常数计算 | 第26-28页 |
| 3.3.2 金属材料的光学常数计算 | 第28-30页 |
| 3.4 膜系设计方案 | 第30-35页 |
| 3.4.1 介质膜系设计 | 第30-31页 |
| 3.4.2 法-珀组合膜系设计 | 第31-34页 |
| 3.4.3 后表面减反射膜的设计 | 第34-35页 |
| 第四章 沉积工艺技术的研究 | 第35-45页 |
| 4.1 工艺参数的研究 | 第35-42页 |
| 4.1.1 沉积技术的研究 | 第35-39页 |
| 4.1.2 真空环境的研究 | 第39页 |
| 4.1.3 基底温度的研究 | 第39-41页 |
| 4.1.4 Tooling因子 | 第41-42页 |
| 4.2 工艺流程 | 第42-45页 |
| 4.2.1 基片预处理 | 第42-43页 |
| 4.2.2 膜料预熔 | 第43页 |
| 4.2.3 离子源预清洗 | 第43页 |
| 4.2.4 蒸镀工艺 | 第43-45页 |
| 第五章 测试分析与工艺改进 | 第45-52页 |
| 5.1 逆向反演法分析 | 第45-46页 |
| 5.2 分步沉积工艺的研究 | 第46-48页 |
| 5.3 Tooling因子的修正 | 第48-52页 |
| 第六章 总结 | 第52-54页 |
| 6.1 主要工作总结 | 第52-53页 |
| 6.2 创新点说明 | 第53页 |
| 6.3 不足与展望 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 攻读硕士期间的学术成果和参与科研情况 | 第57页 |
