学位论文数据集 | 第3-4页 |
摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
主要符号说明 | 第13-14页 |
第一章 绪论 | 第14-30页 |
1.1 课题来源 | 第14页 |
1.2 电磁屏蔽 | 第14-18页 |
1.2.1 电磁屏蔽理论 | 第14-15页 |
1.2.2 电磁屏蔽材料 | 第15-18页 |
1.3 导电填料 | 第18-20页 |
1.3.1 金属系导电填料 | 第18-19页 |
1.3.2 碳系导电填料 | 第19页 |
1.3.3 聚合物系导电填料 | 第19页 |
1.3.4 高导电复合填料 | 第19-20页 |
1.4 高导电复合填料的制备 | 第20-25页 |
1.4.1 物理气相沉积 | 第20-22页 |
1.4.2 热喷涂 | 第22页 |
1.4.3 贴金属箔法 | 第22页 |
1.4.4 电镀法 | 第22-23页 |
1.4.5 化学镀法 | 第23-25页 |
1.5 单宁酸-铁离子表面修饰方法 | 第25-27页 |
1.5.1 单宁酸 | 第25-26页 |
1.5.2 单宁酸-铁离子的沉积 | 第26-27页 |
1.6 论文选题的目的和意义 | 第27-28页 |
1.7 本课题的主要研究内容 | 第28页 |
1.8 本课题的创新点 | 第28-30页 |
第二章 铝/银复合填料的制备 | 第30-50页 |
2.1 引言 | 第30页 |
2.2 实验部分 | 第30-33页 |
2.2.1 实验原料 | 第30-31页 |
2.2.2 实验步骤 | 第31-33页 |
2.3 表征方法 | 第33-34页 |
2.3.1 X射线光电子能谱仪(XPS) | 第33页 |
2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第33页 |
2.3.3 X射线衍射仪(XRD) | 第33-34页 |
2.3.4 X射线能谱仪(EDX) | 第34页 |
2.3.5 四探针电阻仪(Four-point Probe Meter) | 第34页 |
2.3.6 原子力显微镜(AFM) | 第34页 |
2.4 结果与讨论 | 第34-49页 |
2.4.1 单宁酸-铁离子沉积反应的实验条件探究 | 第34-38页 |
2.4.2 铝粉的单宁酸-铁离子表面修饰 | 第38-41页 |
2.4.3 铝/银复合填料的制备及表征 | 第41-49页 |
2.5 小结 | 第49-50页 |
第三章 氧化石墨烯/银复合填料的制备 | 第50-68页 |
3.1 引言 | 第50页 |
3.2 实验部分 | 第50-52页 |
3.2.1 实验原料 | 第50-51页 |
3.2.2 实验步骤 | 第51-52页 |
3.3 表征方法 | 第52-54页 |
3.3.1 原子力显微镜(AFM) | 第52-53页 |
3.3.2 X射线光电子能谱仪(XPS) | 第53页 |
3.3.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第53页 |
3.3.4 透射电子显微镜(TEM) | 第53页 |
3.3.5 X射线能谱仪(EDX) | 第53页 |
3.3.6 四探针电阻仪(Four-point Probe Meter) | 第53-54页 |
3.3.7 X射线衍射仪(XRD) | 第54页 |
3.4 结果与讨论 | 第54-67页 |
3.4.1 氧化石墨烯的分散 | 第54-55页 |
3.4.2 氧化石墨烯的单宁酸-铁离子表面修饰 | 第55-58页 |
3.4.3 氧化石墨烯/银复合填料的制备及表征 | 第58-67页 |
3.5 小结 | 第67-68页 |
第四章 结论 | 第68-70页 |
参考文献 | 第70-76页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第76-78页 |
致谢 | 第78-80页 |
作者简介 | 第80页 |
导师简介 | 第80-82页 |
北京化工大学硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第82-83页 |