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单宁酸-铁离子表面修饰方法制备高导电复合填料

学位论文数据集第3-4页
摘要第4-6页
ABSTRACT第6-8页
主要符号说明第13-14页
第一章 绪论第14-30页
    1.1 课题来源第14页
    1.2 电磁屏蔽第14-18页
        1.2.1 电磁屏蔽理论第14-15页
        1.2.2 电磁屏蔽材料第15-18页
    1.3 导电填料第18-20页
        1.3.1 金属系导电填料第18-19页
        1.3.2 碳系导电填料第19页
        1.3.3 聚合物系导电填料第19页
        1.3.4 高导电复合填料第19-20页
    1.4 高导电复合填料的制备第20-25页
        1.4.1 物理气相沉积第20-22页
        1.4.2 热喷涂第22页
        1.4.3 贴金属箔法第22页
        1.4.4 电镀法第22-23页
        1.4.5 化学镀法第23-25页
    1.5 单宁酸-铁离子表面修饰方法第25-27页
        1.5.1 单宁酸第25-26页
        1.5.2 单宁酸-铁离子的沉积第26-27页
    1.6 论文选题的目的和意义第27-28页
    1.7 本课题的主要研究内容第28页
    1.8 本课题的创新点第28-30页
第二章 铝/银复合填料的制备第30-50页
    2.1 引言第30页
    2.2 实验部分第30-33页
        2.2.1 实验原料第30-31页
        2.2.2 实验步骤第31-33页
    2.3 表征方法第33-34页
        2.3.1 X射线光电子能谱仪(XPS)第33页
        2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)第33页
        2.3.3 X射线衍射仪(XRD)第33-34页
        2.3.4 X射线能谱仪(EDX)第34页
        2.3.5 四探针电阻仪(Four-point Probe Meter)第34页
        2.3.6 原子力显微镜(AFM)第34页
    2.4 结果与讨论第34-49页
        2.4.1 单宁酸-铁离子沉积反应的实验条件探究第34-38页
        2.4.2 铝粉的单宁酸-铁离子表面修饰第38-41页
        2.4.3 铝/银复合填料的制备及表征第41-49页
    2.5 小结第49-50页
第三章 氧化石墨烯/银复合填料的制备第50-68页
    3.1 引言第50页
    3.2 实验部分第50-52页
        3.2.1 实验原料第50-51页
        3.2.2 实验步骤第51-52页
    3.3 表征方法第52-54页
        3.3.1 原子力显微镜(AFM)第52-53页
        3.3.2 X射线光电子能谱仪(XPS)第53页
        3.3.3 扫描电子显微镜(SEM)第53页
        3.3.4 透射电子显微镜(TEM)第53页
        3.3.5 X射线能谱仪(EDX)第53页
        3.3.6 四探针电阻仪(Four-point Probe Meter)第53-54页
        3.3.7 X射线衍射仪(XRD)第54页
    3.4 结果与讨论第54-67页
        3.4.1 氧化石墨烯的分散第54-55页
        3.4.2 氧化石墨烯的单宁酸-铁离子表面修饰第55-58页
        3.4.3 氧化石墨烯/银复合填料的制备及表征第58-67页
    3.5 小结第67-68页
第四章 结论第68-70页
参考文献第70-76页
攻读学位期间发表的学术论文第76-78页
致谢第78-80页
作者简介第80页
导师简介第80-82页
北京化工大学硕士研究生学位论文答辩委员会决议书第82-83页

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