| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 偏光全息理论的研究背景 | 第10-21页 |
| 1.2.1 全息术简介 | 第10-13页 |
| 1.2.2 光全息存储 | 第13-15页 |
| 1.2.3 光的偏振 | 第15-19页 |
| 1.2.4 偏光全息简介 | 第19-21页 |
| 1.3 国内外研究发展概况及发展趋势 | 第21-23页 |
| 1.4 章节安排 | 第23-24页 |
| 第2章 偏光全息基础理论 | 第24-36页 |
| 2.1 光致各向异性介质 | 第24-30页 |
| 2.1.1 各向异性介质的分子模型 | 第24-25页 |
| 2.1.2 分子轴的平均取向 | 第25-26页 |
| 2.1.3 材料的初始状态 | 第26-27页 |
| 2.1.4 材料的曝光过程分析 | 第27-29页 |
| 2.1.5 从材料现象学理论分析材料的介电张量 | 第29-30页 |
| 2.2 偏光全息记录过程 | 第30-31页 |
| 2.3 偏光全息再现过程 | 第31-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-36页 |
| 第3章 偏光全息材料及其制备 | 第36-43页 |
| 3.1 偏光全息材料简介 | 第36-38页 |
| 3.2 掺杂菲醌的聚甲基丙烯酸甲酯聚合物材料的制备 | 第38-40页 |
| 3.3 基于线偏振光的偏光全息实验材料测试 | 第40-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 正交圆偏振光的偏光全息过程 | 第43-49页 |
| 4.1 正交圆偏振光的全息记录偏振光场分析 | 第43-45页 |
| 4.2 正交圆偏振光的偏光全息再现特性的理论分析 | 第45-48页 |
| 4.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 基于圆偏振光的偏光全息实验方案设计及实验结果分析 | 第49-59页 |
| 5.1 圆偏振光的产生 | 第49-50页 |
| 5.2 再现光偏振态及A+B对全息过程影响的检测方法 | 第50-52页 |
| 5.3 整体实验平台设计 | 第52-53页 |
| 5.4 实验数据结果分析 | 第53-56页 |
| 5.5 零再现现象物理机制分析 | 第56-58页 |
| 5.6 本章小结 | 第58-59页 |
| 总结与展望 | 第59-61页 |
| 本文的主要工作和创新点 | 第59-60页 |
| 对进一步工作的展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 攻读学位期间发表论文与研究成果清单 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
