| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 微细磨料水射流抛光技术研究现状 | 第10-14页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第11-13页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第13-14页 |
| 1.3 磁场辅助工艺技术发展现状 | 第14-17页 |
| 1.3.1 磁流变抛光工艺 | 第14-16页 |
| 1.3.2 磁射流抛光工艺 | 第16-17页 |
| 1.4 微细磨料水射流抛光技术存在的主要问题 | 第17页 |
| 1.5 课题来源与主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 磁场辅助MAWJ抛光磁场发生装置的分析设计 | 第19-31页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 磁场发生装置的设计 | 第19-21页 |
| 2.2.1 磁场发生装置需求分析 | 第19页 |
| 2.2.2 磁场发生装置设计思路 | 第19-20页 |
| 2.2.3 磁场发生装置的组成 | 第20-21页 |
| 2.3 磁场辅助微细磨料水射流抛光磁场的设计 | 第21-24页 |
| 2.3.1 磁场线圈的主要参数计算 | 第21-23页 |
| 2.3.2 励磁线圈的选择 | 第23页 |
| 2.3.3 磁场电源的选择 | 第23-24页 |
| 2.4 线圈磁场分布数值模拟 | 第24-28页 |
| 2.4.1 线圈磁场分布数值模拟过程 | 第24-28页 |
| 2.4.2 励磁电流对线圈磁场分布的影响规律 | 第28页 |
| 2.5 磁场发生装置磁场强度的测试 | 第28-30页 |
| 2.5.1 磁场发生装置磁场强度测试原理及步骤 | 第28-29页 |
| 2.5.2 磁场发生装置磁场强度测试结果及分析 | 第29-30页 |
| 2.5.3 结论 | 第30页 |
| 2.6 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 磁场辅助MAWJ喷嘴内外流场分布数值模拟 | 第31-47页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 多物理场数值模拟理论模型的建立 | 第31-33页 |
| 3.3 多物理场数值模拟几何模型的建立 | 第33-35页 |
| 3.3.1 几何模型 | 第33-34页 |
| 3.3.2 网格划分 | 第34-35页 |
| 3.4 边界参数及多物理场耦合模型的设定 | 第35-37页 |
| 3.4.1 边界参数设置 | 第35-36页 |
| 3.4.2 磨粒运动轨迹计算流程及其参数设置 | 第36-37页 |
| 3.5 多物理场数值模拟结果及其分析 | 第37-42页 |
| 3.5.1 射流压力对喷射效果的影响 | 第37-39页 |
| 3.5.2 励磁电流对喷射效果的影响 | 第39-40页 |
| 3.5.3 磨料流量对喷射效果的影响 | 第40-42页 |
| 3.6 射流聚束稳定性对比分析 | 第42-46页 |
| 3.6.1 磁场强度对射流聚束稳定性的影响 | 第42-44页 |
| 3.6.2 射流聚束稳定性试验验证 | 第44-45页 |
| 3.6.3 试验结果及其分析 | 第45-46页 |
| 3.7 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 磁场辅助MAWJ抛光陶瓷材料基础试验研究 | 第47-64页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 磁场辅助MAWJ抛光试验 | 第47-52页 |
| 4.2.1 试验所需设备介绍 | 第47-49页 |
| 4.2.2 试验所需测试仪器介绍 | 第49-50页 |
| 4.2.3 工件材料介绍 | 第50页 |
| 4.2.4 磁性磨料选择 | 第50-52页 |
| 4.3 单因素氧化铝陶瓷材料抛光试验 | 第52-59页 |
| 4.3.1 射流压力对氧化铝陶瓷片表面粗糙度的影响规律 | 第52-53页 |
| 4.3.2 磁场强度对氧化铝陶瓷片表面粗糙度的影响规律 | 第53-54页 |
| 4.3.3 磨料流量对氧化铝陶瓷片表面粗糙度的影响规律 | 第54-55页 |
| 4.3.4 靶距对氧化铝陶瓷片表面粗糙度的影响规律 | 第55-56页 |
| 4.3.5 磨料粒径对氧化铝陶瓷片表面粗糙度的影响规律 | 第56-59页 |
| 4.4 氧化铝陶瓷材料交互正交试验设计方案选取 | 第59-63页 |
| 4.4.1 交互正交试验法 | 第59页 |
| 4.4.2 交互正交试验表设计方案 | 第59页 |
| 4.4.3 试验结果及其分析 | 第59-61页 |
| 4.4.4 最佳工艺参数组合验证试验 | 第61-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 5.1 总结 | 第64-65页 |
| 5.1.1 论文主要研究工作 | 第64页 |
| 5.1.2 论文主要创新之处 | 第64-65页 |
| 5.2 展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 在校期间公开发表论文、著作及获奖情况 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
