摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-32页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 低维材料简介 | 第11-14页 |
1.3 纯硼纳米团簇 | 第14-20页 |
1.3.1 硼体相的结构、性质以及成键特征 | 第14-16页 |
1.3.2 硼团簇的实验和理论研究 | 第16-19页 |
1.3.3 硼纳米团簇中特殊的多中心键 | 第19-20页 |
1.4 硼与过渡金属形成的低维合金结构 | 第20-22页 |
1.5 实验与理论在二维硼平面研究上取得的进展 | 第22-28页 |
1.5.1 理论预言的二维硼单层 | 第22-24页 |
1.5.2 实验上单层硼平面的结构及其性质 | 第24-27页 |
1.5.3 单层硼平面表面吸附以及活性 | 第27-28页 |
1.6 硼与非金属元素形成的低维合金 | 第28-30页 |
1.7 论文研究目标和内容安排 | 第30-32页 |
第二章 硼纳米团簇 | 第32-42页 |
2.1 研究背景简介 | 第32-33页 |
2.2 计算方法 | 第33-35页 |
2.3 结果与讨论 | 第35-41页 |
2.3.1 硼原子数目在51以内的平面团簇 | 第35-38页 |
2.3.2 硼原子数目更多的平面和管状团簇 | 第38-39页 |
2.3.3 硼纳米团簇中二维与三维的竞争 | 第39-41页 |
2.4 本章小结 | 第41-42页 |
第三章 单层硼平面的结构稳定性与电子性质 | 第42-54页 |
3.1 研究背景简介 | 第42-43页 |
3.2 计算方法 | 第43-44页 |
3.3 结果与讨论 | 第44-53页 |
3.3.1 单层硼平面的结构稳定性 | 第44页 |
3.3.2 稳定硼平面的电子性质 | 第44-46页 |
3.3.3 单层半导体硼平面的发现 | 第46-48页 |
3.3.4 构造单层半导体硼平面 | 第48-52页 |
3.3.5 应变对半导体硼平面的性质调控 | 第52-53页 |
3.4 本章小结 | 第53-54页 |
第四章 稳定的三明治结构FeB_x合金 | 第54-64页 |
4.1 研究背景简介 | 第54页 |
4.2 计算方法 | 第54-55页 |
4.3 结果与讨论 | 第55-63页 |
4.3.1 FeB_x合金的结构稳定性 | 第55-58页 |
4.3.2 二维FeB_x合金的电子性质 | 第58-60页 |
4.3.3 FeB_6三明治结构的光学性质与振动模式 | 第60-63页 |
4.4 本章小结 | 第63-64页 |
第五章 单层硼平面在Ag(111)表面的成核与生长 | 第64-76页 |
5.1 研究背景简介 | 第64页 |
5.2 计算方法 | 第64-66页 |
5.3 结果与讨论 | 第66-75页 |
5.3.1 硼团簇的初始成核 | 第66-68页 |
5.3.2 硼团簇在衬底内部的生长演化 | 第68-69页 |
5.3.3 硼纳米条带在衬底内部的生长 | 第69-72页 |
5.3.4 银衬底上的单层硼平面结构 | 第72-73页 |
5.3.5 半导体硼平面在金属衬底上的稳定性 | 第73-75页 |
5.4 本章小结 | 第75-76页 |
第六章 模型理解硼纳米团簇与硼平面的结构稳定性 | 第76-97页 |
6.1 研究背景简介 | 第76页 |
6.2 结果与讨论 | 第76-95页 |
6.2.1 硼纳米团簇的成键分析 | 第76-82页 |
6.2.2 硼纳米团簇的模型约束 | 第82-86页 |
6.2.3 孤立单层硼平面的电子补偿机制 | 第86-92页 |
6.2.4 模型理解硼平面与金属衬底的相互作用 | 第92-95页 |
6.3 本章小结 | 第95-97页 |
第七章 全文总结 | 第97-99页 |
7.1 主要结论与创新 | 第97页 |
7.2 展望与设想 | 第97-99页 |
参考文献 | 第99-109页 |
攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第109-111页 |
致谢 | 第111-114页 |
附件 | 第114页 |