POSS改性红外高发射率金属氧化物膜材料的研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 红外辐射理论基础 | 第10-13页 |
| 1.1.1 发射率的基本概念 | 第10页 |
| 1.1.2 红外涂层的辐射机理 | 第10-12页 |
| 1.1.3 红外辐射的基本定律 | 第12页 |
| 1.1.4 红外高发射率材料的分类 | 第12-13页 |
| 1.2 发射率的影响因素 | 第13-15页 |
| 1.2.1 温度对发射率的影响 | 第13页 |
| 1.2.2 填料对发射率的影响 | 第13-14页 |
| 1.2.3 发射率的其他影响因素 | 第14-15页 |
| 1.3 红外辐射材料的发展状况 | 第15-18页 |
| 1.3.1 国内外高辐射陶瓷材料的研究状况 | 第15-17页 |
| 1.3.2 辐射涂层的发展 | 第17-18页 |
| 1.4 高发射率材料的应用和发展方向 | 第18-20页 |
| 1.4.1 高发射率材料的应用 | 第18-19页 |
| 1.4.2 红外辐射涂料的发展方向 | 第19-20页 |
| 1.5 本文研究的意义和主要内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第20-21页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第22-28页 |
| 2.1 实验药品 | 第22页 |
| 2.2 实验仪器 | 第22-23页 |
| 2.3 实验方法原理选择 | 第23-25页 |
| 2.3.1 材料成分选择 | 第23-24页 |
| 2.3.2 涂膜工艺的选择 | 第24-25页 |
| 2.4 实验分析测试方法表征 | 第25-28页 |
| 2.4.1 扫描电子显微镜（SEM-EDS） | 第25页 |
| 2.4.2 红外光谱分析（FTIR） | 第25-26页 |
| 2.4.3 X 射线衍射分析（XRD） | 第26页 |
| 2.4.4 X 射线光电子能谱（XPS） | 第26页 |
| 2.4.5 透射电子显微镜（TEM） | 第26页 |
| 2.4.6 辐射性能测试 | 第26-27页 |
| 2.4.7 抗热震性能测试 | 第27页 |
| 2.4.8 隔热性能测试 | 第27-28页 |
| 第3章 高发射率涂料的制备与表征 | 第28-39页 |
| 3.1 引言 | 第28-29页 |
| 3.2 原料微观形貌与成分分析 | 第29-34页 |
| 3.2.1 粘结剂成分分析 | 第29-31页 |
| 3.2.2 低温釉料成分分析 | 第31-33页 |
| 3.2.3 发射层涂料成分分析 | 第33-34页 |
| 3.3 试验工艺流程 | 第34-35页 |
| 3.4 组分的研究 | 第35-37页 |
| 3.4.1 基料配比 | 第35页 |
| 3.4.2 组分研究 | 第35-37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 高发射率涂层的制备与表征 | 第39-47页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 涂层的制备工艺 | 第39-41页 |
| 4.2.1 基体预处理 | 第39-40页 |
| 4.2.2 涂层厚度的控制 | 第40-41页 |
| 4.3 低温釉层的制备及表征 | 第41-44页 |
| 4.3.1 低温釉层的制备及合成 | 第41-42页 |
| 4.3.2 不同组成的低温釉层的结构表征 | 第42-44页 |
| 4.4 发射层的制备及表征 | 第44-46页 |
| 4.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第5章 涂层材料的性能表征 | 第47-59页 |
| 5.1 引言 | 第47-48页 |
| 5.2 形貌分析 | 第48-49页 |
| 5.3 隔热性能分析 | 第49-50页 |
| 5.4 发射率分析 | 第50-55页 |
| 5.4.1 不同组分对发射率的影响 | 第50-52页 |
| 5.4.2 不同温度对发射率的影响 | 第52-55页 |
| 5.5 抗热震性能分析 | 第55-57页 |
| 5.5.1 组分对抗热震性的影响 | 第55-56页 |
| 5.5.2 温度对涂层抗热震性能的影响 | 第56-57页 |
| 5.6 本章小结 | 第57-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
