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POSS改性红外高发射率金属氧化物膜材料的研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第10-22页
    1.1 红外辐射理论基础第10-13页
        1.1.1 发射率的基本概念第10页
        1.1.2 红外涂层的辐射机理第10-12页
        1.1.3 红外辐射的基本定律第12页
        1.1.4 红外高发射率材料的分类第12-13页
    1.2 发射率的影响因素第13-15页
        1.2.1 温度对发射率的影响第13页
        1.2.2 填料对发射率的影响第13-14页
        1.2.3 发射率的其他影响因素第14-15页
    1.3 红外辐射材料的发展状况第15-18页
        1.3.1 国内外高辐射陶瓷材料的研究状况第15-17页
        1.3.2 辐射涂层的发展第17-18页
    1.4 高发射率材料的应用和发展方向第18-20页
        1.4.1 高发射率材料的应用第18-19页
        1.4.2 红外辐射涂料的发展方向第19-20页
    1.5 本文研究的意义和主要内容第20-22页
        1.5.1 研究意义第20-21页
        1.5.2 主要研究内容第21-22页
第2章 实验材料与方法第22-28页
    2.1 实验药品第22页
    2.2 实验仪器第22-23页
    2.3 实验方法原理选择第23-25页
        2.3.1 材料成分选择第23-24页
        2.3.2 涂膜工艺的选择第24-25页
    2.4 实验分析测试方法表征第25-28页
        2.4.1 扫描电子显微镜(SEM-EDS)第25页
        2.4.2 红外光谱分析(FTIR)第25-26页
        2.4.3 X 射线衍射分析(XRD)第26页
        2.4.4 X 射线光电子能谱(XPS)第26页
        2.4.5 透射电子显微镜(TEM)第26页
        2.4.6 辐射性能测试第26-27页
        2.4.7 抗热震性能测试第27页
        2.4.8 隔热性能测试第27-28页
第3章 高发射率涂料的制备与表征第28-39页
    3.1 引言第28-29页
    3.2 原料微观形貌与成分分析第29-34页
        3.2.1 粘结剂成分分析第29-31页
        3.2.2 低温釉料成分分析第31-33页
        3.2.3 发射层涂料成分分析第33-34页
    3.3 试验工艺流程第34-35页
    3.4 组分的研究第35-37页
        3.4.1 基料配比第35页
        3.4.2 组分研究第35-37页
    3.5 本章小结第37-39页
第4章 高发射率涂层的制备与表征第39-47页
    4.1 引言第39页
    4.2 涂层的制备工艺第39-41页
        4.2.1 基体预处理第39-40页
        4.2.2 涂层厚度的控制第40-41页
    4.3 低温釉层的制备及表征第41-44页
        4.3.1 低温釉层的制备及合成第41-42页
        4.3.2 不同组成的低温釉层的结构表征第42-44页
    4.4 发射层的制备及表征第44-46页
    4.5 本章小结第46-47页
第5章 涂层材料的性能表征第47-59页
    5.1 引言第47-48页
    5.2 形貌分析第48-49页
    5.3 隔热性能分析第49-50页
    5.4 发射率分析第50-55页
        5.4.1 不同组分对发射率的影响第50-52页
        5.4.2 不同温度对发射率的影响第52-55页
    5.5 抗热震性能分析第55-57页
        5.5.1 组分对抗热震性的影响第55-56页
        5.5.2 温度对涂层抗热震性能的影响第56-57页
    5.6 本章小结第57-59页
结论第59-60页
参考文献第60-66页
致谢第66页

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