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共轭离子化合物掺杂氧化石墨烯空穴注入层对OLED性能的影响

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
1 绪论第11-26页
    1.1 有机电致发光器件的研究进展第11-13页
    1.2 有机电致发光器件的理论基础第13-17页
        1.2.1 有机电致发光器件的发光机理第13-14页
        1.2.2 有机电致发光器件的结构第14-15页
        1.2.3 评价电致发光性能的重要参数第15-17页
    1.3 有机电致发光器件的不同功能层材料第17-20页
        1.3.1 不同功能层材料的选择第17-19页
        1.3.2 有机电致发光器件的空穴注入层第19-20页
    1.4 氧化石墨烯的研究进展第20-24页
        1.4.1 氧化石墨烯在光电器件领域的应用第20-21页
        1.4.2 氧化石墨烯的还原技术第21-22页
        1.4.3 氧化石墨烯的功能化修饰第22-24页
    1.5 课题的提出及研究内容第24-26页
        1.5.1 课题的提出第24页
        1.5.2 课题的研究内容第24-26页
2 实验原料、试剂及仪器第26-29页
    2.1 实验原料及试剂第26-27页
    2.2 实验仪器设备第27页
    2.3 器件性能测试及薄膜性能分析设备第27-29页
        2.3.1 器件光电性能测试设备第27-28页
        2.3.2 薄膜性能分析设备第28-29页
3 氧化石墨烯空穴注入层对电致发光性能的影响第29-46页
    3.1 引言第29页
    3.2 氧化石墨烯的厚度对OLED器件性能的影响第29-35页
        3.2.1 器件结构设计第29-30页
        3.2.2 器件制备过程第30-31页
        3.2.3 器件电致发光性能测试与分析第31-34页
        3.2.4 机理分析第34-35页
    3.3 氧化石墨烯的氧化程度对OLED器件性能的影响第35-41页
        3.3.1 器件结构设计第35-36页
        3.3.2 器件制备过程第36页
        3.3.3 器件电致发光性能测试与分析第36-38页
        3.3.4 机理分析第38-41页
    3.4 不同空穴传输层对OLED器件性能的影响第41-44页
        3.4.1 器件结构设计第41页
        3.4.2 器件制备过程第41-42页
        3.4.3 器件电致发光性能测试与分析第42-43页
        3.4.4 机理分析第43-44页
    3.5 本章小结第44-46页
4 不同共轭离子化合物掺杂rGO空穴注入层对OLED电致发光性能的影响第46-61页
    4.1 引言第46页
    4.2 N,N-二甲基二吖啶硝酸盐掺杂rGO空穴注入层对OLED器件性能的影响第46-52页
        4.2.1 器件结构设计第46-47页
        4.2.2 器件制备过程第47-48页
        4.2.3 器件电致发光性能测试与分析第48-49页
        4.2.4 机理分析第49-52页
    4.3 N,N-二甲基二吖啶甲基对苯二酸盐掺杂rGO空穴注入层对OLED器件性能的影响第52-59页
        4.3.1 器件结构设计第52页
        4.3.2 器件制备过程第52-53页
        4.3.3 器件电致发光性能测试与分析第53-55页
        4.3.4 机理分析第55-59页
    4.4 本章小结第59-61页
5 新型有机-无机杂化钙钛矿发光器件的前期探索第61-69页
    5.1 引言第61-62页
    5.2 长链胺盐的加入对钙钛矿薄膜的影响第62-66页
        5.2.1 甲胺溴酸盐和辛二胺溴酸盐的制备第62-63页
        5.2.2 钙钛矿薄膜的制备第63-64页
        5.2.3 钙钛矿薄膜的表征与测试第64-66页
    5.3 共轭离子化合物掺杂rGO空穴注入层的钙钛矿发光器件性能表征第66-68页
        5.3.1 器件结构设计第66-67页
        5.3.2 电致发光性能测试第67-68页
    5.4 本章小结第68-69页
6 结论第69-71页
参考文献第71-77页
个人简历第77-78页
致谢第78页

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