| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 引言 | 第12-32页 |
| 1.1 过渡金属氧化物简介 | 第12-15页 |
| 1.1.1 过渡金属氧化物的结构 | 第12-14页 |
| 1.1.2 过渡金属氧化物的电子特性 | 第14-15页 |
| 1.2 尖晶石氧化物LiTi_2O_4材料的结构和性质 | 第15-20页 |
| 1.2.1 LiTi_2O_4材料的结构 | 第15-16页 |
| 1.2.2 LiTi_2O_4材料的基本性质 | 第16-20页 |
| 1.3 高温铜氧化物超导体简介 | 第20-25页 |
| 1.3.1 铜氧化物超导体的分类和研究进展 | 第22-24页 |
| 1.3.2 电子型铜氧化物La_(2-x)Ce_xCuO_(4±δ)材料的性质 | 第24-25页 |
| 1.4 过渡金属氧化物SrCoO_(3-δ)材料的性质 | 第25-26页 |
| 1.5 生长条件调控超导薄膜的超导电性 | 第26-31页 |
| 1.5.1 氧空位调控超导电性 | 第26-27页 |
| 1.5.2 应力调控超导电性 | 第27-29页 |
| 1.5.3 界面调控超导电性 | 第29-31页 |
| 1.6 本文主要结构 | 第31-32页 |
| 第二章 超导薄膜的制备和表征 | 第32-50页 |
| 2.1 薄膜制备技术和原理 | 第32-39页 |
| 2.1.1 薄膜的制备方法 | 第32-33页 |
| 2.1.2 靶材的制备 | 第33-35页 |
| 2.1.3 衬底的处理 | 第35-36页 |
| 2.1.4 脉冲激光沉积(PLD)技术 | 第36-38页 |
| 2.1.5 PLD技术制备薄膜的流程 | 第38-39页 |
| 2.2 薄膜表征技术和原理 | 第39-48页 |
| 2.2.1 薄膜结构表征 | 第39-44页 |
| 2.2.2 薄膜微观形貌表征 | 第44-46页 |
| 2.2.3 光刻和离子刻蚀 | 第46-48页 |
| 2.2.4 超导薄膜物性测量 | 第48页 |
| 2.3 本章小结 | 第48-50页 |
| 第三章 晶格应力以及晶体取向对LiTi_2O_4薄膜结构和物性的影响 | 第50-62页 |
| 3.1 实验背景 | 第50-51页 |
| 3.2 样品的制备和表征 | 第51-56页 |
| 3.2.1 样品的制备流程 | 第51页 |
| 3.2.2 LiTi_2O_4薄膜生长条件的探索 | 第51-54页 |
| 3.2.3 不同取向LiTi_2O_4薄膜的结构和形貌表征 | 第54-56页 |
| 3.3 实验结果及分析 | 第56-61页 |
| 3.3.1 不同取向样品的R-T曲线 | 第56-57页 |
| 3.3.2 样品的磁电阻随温度的变化关系 | 第57-58页 |
| 3.3.3 样品的面内磁阻随磁场的变化关系 | 第58-60页 |
| 3.3.4 数据分析 | 第60-61页 |
| 3.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 第四章 氧含量对LiTi_2O_4薄膜结构和物性的影响 | 第62-72页 |
| 4.1 实验背景 | 第62-63页 |
| 4.2 样品的制备和表征 | 第63-65页 |
| 4.2.1 不同氧含量的Li_(1+x)Ti_(2-x)O_(4+δ)薄膜的制备 | 第63页 |
| 4.2.2 不同氧含量的Li_(1+x)Ti_(2-x)O_(4+δ)薄膜的结构表征 | 第63-65页 |
| 4.3 实验结果及分析 | 第65-70页 |
| 4.3.1 不同氧含量样品的R-T曲线 | 第65-66页 |
| 4.3.2 样品的微观形貌表征 | 第66-67页 |
| 4.3.3 不同氧含量样品的磁电阻行为 | 第67-68页 |
| 4.3.4 数据分析 | 第68-70页 |
| 4.4 本章小结 | 第70-72页 |
| 第五章 SrCoO_(3-δ)薄膜对La_(2-x)Ce_xCuO_(4±δ)超导电性的调控 | 第72-82页 |
| 5.1 实验背景 | 第72-73页 |
| 5.2 样品的制备 | 第73-78页 |
| 5.2.1 LCCO超导薄膜的制备 | 第73-74页 |
| 5.2.2 LCCO超导薄膜的结构表征 | 第74-75页 |
| 5.2.3 LCCO超导薄膜的电输运性质 | 第75-76页 |
| 5.2.4 反铁磁SrCoO_(2.5)薄膜的制备和表征 | 第76-77页 |
| 5.2.5 SrCoO_(2.5)/LCCO多层薄膜的制备 | 第77-78页 |
| 5.3 实验结果分析与讨论 | 第78-80页 |
| 5.4 本章小结 | 第80-82页 |
| 第六章 总结与展望 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-96页 |
| 个人简历 | 第96-98页 |
| 发表文章目录 | 第98-100页 |
| 致谢 | 第100-101页 |
