摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
1 绪论 | 第8-9页 |
2 ZnO 综述 | 第9-14页 |
2.1 ZnO 的性质 | 第9-12页 |
2.1.1 ZnO 的晶体结构 | 第9-10页 |
2.1.2 ZnO 的光学性能 | 第10-11页 |
2.1.3 ZnO 的电学性能 | 第11页 |
2.1.4 ZnO 的压电特性 | 第11-12页 |
2.1.5 ZnO 气敏特性 | 第12页 |
2.2 ZnO 的应用 | 第12-13页 |
2.2.1 太阳能电池 | 第12页 |
2.2.2 紫外光探测器 | 第12-13页 |
2.2.3 硅基 ZnO 发光器件 | 第13页 |
2.3 ZnO 薄膜的掺杂 | 第13-14页 |
3 ZnO 薄膜的制备方法及表征 | 第14-31页 |
3.1 ZnO 薄膜的制备方法 | 第14-19页 |
3.1.1 脉冲激光沉积法(Pulsed Laser Deposition) | 第14-15页 |
3.1.2 水热法 | 第15页 |
3.1.3 化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition) | 第15-16页 |
3.1.4 溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第16-18页 |
3.1.5 磁控溅射法((Magnetron Sputterin) | 第18页 |
3.1.6 喷雾热解法( Spray pyrolysis,SP) | 第18-19页 |
3.2 超声喷雾热解法(USP)制备 ZnO 薄膜 | 第19-24页 |
3.2.1 超声喷雾热解法制备薄膜的基本原理 | 第19-21页 |
3.2.2 超声喷雾热解法(USP)制备薄膜的工艺过程 | 第21-22页 |
3.2.2.1 前驱体溶液的雾化 | 第21页 |
3.2.2.2 雾滴的传送 | 第21页 |
3.2.2.3 雾化液滴热分解成膜 | 第21-22页 |
3.2.3 超声喷雾热解法(USP)工艺参数对薄膜性能的影响 | 第22-24页 |
3.2.3.1 前驱体溶液的化学组成 | 第23页 |
3.2.3.2 衬底温度的改变对薄膜的影响 | 第23页 |
3.2.3.3 退火处理对薄膜的影响 | 第23-24页 |
3.2.3.4 其它工艺参数对薄膜的影响 | 第24页 |
3.3 Na-Mg 共掺 ZnO 薄膜的制备 | 第24-26页 |
3.3.1 实验试剂及设备 | 第24-25页 |
3.3.2 实验过程 | 第25-26页 |
3.4 薄膜的表征方法 | 第26-31页 |
3.4.1 X 射线衍射分析(XRD) | 第26-27页 |
3.4.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第27-29页 |
3.4.3 光致发光谱(PL 谱) | 第29页 |
3.4.4 紫外-可见光谱 | 第29-31页 |
4 Na-Mg 共掺杂的 ZnO 薄膜结构性能及光学性质的分析 | 第31-45页 |
4.1 改变不同的 Na+掺杂浓度对 ZnO 薄膜性质的影响 | 第32-39页 |
4.1.1 改变不同的 Na+掺杂浓度对 ZnO 薄膜结晶性能的影响 | 第32-33页 |
4.1.2 改变不同的 Na+掺杂浓度对 ZnO 薄膜表面形貌的影响 | 第33-34页 |
4.1.3 改变不同的 Na+掺杂浓度对 ZnO 薄膜发光性质的影响 | 第34-36页 |
4.1.4 改变不同的 Na+掺杂浓度对 ZnO 薄膜透射率的影响 | 第36-39页 |
4.2 改变不同的衬底温度对 ZnO 薄膜性质的影响 | 第39-44页 |
4.2.1 改变不同的衬底温度对 ZnO 薄膜结晶性能的影响 | 第39-41页 |
4.2.2 改变不同的衬底温度对 ZnO 薄膜表面形貌的影响 | 第41-42页 |
4.2.3 改变不同的衬底温度对 ZnO 薄膜发光性质的影响 | 第42-44页 |
4.2.4 改变不同的衬底温度对 ZnO 薄膜透射率的影响 | 第44页 |
4.3 本章小结 | 第44-45页 |
5 结论与展望 | 第45-46页 |
参考文献 | 第46-49页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第49-50页 |
致谢 | 第50页 |