| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 半导体光催化技术简介 | 第12-14页 |
| 1.1.1 半导体光催化基本原理 | 第13-14页 |
| 1.1.2 提高光催化性能的思路 | 第14页 |
| 1.2 光催化剂的改性 | 第14-16页 |
| 1.2.1 表面形貌 | 第14-15页 |
| 1.2.2 能带结构 | 第15页 |
| 1.2.3 稳定性 | 第15-16页 |
| 1.3 半导体复合 | 第16-19页 |
| 1.3.1 s-s型异质结光催化剂 | 第16-17页 |
| 1.3.2 s-m型异质结光催化剂 | 第17-18页 |
| 1.3.3 c-s型异质结光催化剂 | 第18-19页 |
| 1.3.4 多元异质结 | 第19页 |
| 1.4 铋基光催化剂简介 | 第19-22页 |
| 1.4.1 氧化铋光催化剂简介 | 第20-22页 |
| 1.4.2 钼酸铋光催化剂简介 | 第22页 |
| 1.5 本文的研究意义及创新点 | 第22-25页 |
| 第二章 实验研究方法 | 第25-32页 |
| 2.1 实验试剂与设备 | 第25-26页 |
| 2.2 结构与性能表征 | 第26-30页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析(XRD)和Rietveld结构精修 | 第26-27页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第27-28页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜(TEM)与选区电子衍射(SAED) | 第28页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第28页 |
| 2.2.5 比表面及孔隙度测试(BET) | 第28-29页 |
| 2.2.6 紫外-可见漫反射光谱(DRS) | 第29页 |
| 2.2.7 光致发光光谱(PL) | 第29-30页 |
| 2.3 实验方法及步骤 | 第30-32页 |
| 2.3.1 光催化性能评价实验 | 第30-31页 |
| 2.3.2 捕获剂实验 | 第31-32页 |
| 第三章 δ-Bi_2O_3/Bi_2MoO_6复合光催化剂的制备及性能表征 | 第32-49页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 实验部分 | 第32-34页 |
| 3.2.1 样品制备 | 第32-33页 |
| 3.2.2 样品表征 | 第33-34页 |
| 3.2.3 光催化测试 | 第34页 |
| 3.3 样品性能表征与分析 | 第34-47页 |
| 3.3.1 结构及形貌表征 | 第34-41页 |
| 3.3.2 光催化性能表征及光学性质 | 第41-44页 |
| 3.3.3 光催化机制讨论 | 第44-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 δ-Bi_2O_3/Ag/Bi_2MoO_6复合光催化剂的制备及性能表征 | 第49-59页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 实验方法 | 第49-51页 |
| 4.2.1 δ-Bi_2O_3/Ag/Bi_2MoO_6的制备 | 第49-50页 |
| 4.2.2 样品表征方法 | 第50页 |
| 4.2.3 光催化性能表征 | 第50-51页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第51-58页 |
| 4.3.1 样品的物相及微观形貌分析 | 第51-54页 |
| 4.3.2 光催化性能表征 | 第54-55页 |
| 4.3.3 光学性质表征 | 第55-56页 |
| 4.3.4 光催化机理分析 | 第56-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 结论与展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表及科研情况 | 第67页 |
