| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 垂直磁记录的研究现状 | 第11-14页 |
| 1.2.1 FePt硬磁材料 | 第12页 |
| 1.2.2 热辅助磁记录(HAMR) | 第12页 |
| 1.2.3 微波辅助磁记录(MAMR) | 第12-13页 |
| 1.2.4 图案矩阵磁记录(PAMR) | 第13页 |
| 1.2.5 交换耦合复合介质(ECCmedia) | 第13-14页 |
| 1.3 交换耦合复合介质(ECCmedia) | 第14-18页 |
| 1.3.1 交换弹性介质理论模型(ESmedia) | 第14-15页 |
| 1.3.2 交换耦合复合介质理论模型(ECCmedia) | 第15-18页 |
| 1.3.3 理论与实验进行对比 | 第18页 |
| 1.4 材料的选取 | 第18-19页 |
| 1.5 本论文的研究内容和意义 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-24页 |
| 第二章 薄膜的制备和表征方法 | 第24-32页 |
| 2.1 样品的制备 | 第24-26页 |
| 2.1.1 磁控溅射装置 | 第24-25页 |
| 2.1.2 样品制备过程 | 第25-26页 |
| 2.2 样品的表征 | 第26-31页 |
| 2.2.1 样品厚度表征 | 第26-27页 |
| 2.2.2 样品成分表征 | 第27页 |
| 2.2.3 样品微观结构表征 | 第27-29页 |
| 2.2.4 VSM表征样品磁性 | 第29页 |
| 2.2.5 样品截面结构表征 | 第29页 |
| 2.2.6 磁光克尔表征样品磁性 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-32页 |
| 第三章 薄膜衬底层的选取及优化 | 第32-45页 |
| 3.1 衬底层选取 | 第32-33页 |
| 3.2 工艺优化 | 第33-41页 |
| 3.2.1 测定生长速率 | 第33-34页 |
| 3.2.2 优化衬底层溅射条件 | 第34-35页 |
| 3.2.3 优化硬磁层溅射条件 | 第35-38页 |
| 3.2.4 重新优化Ru衬底层 | 第38-41页 |
| 3.3 硬磁层Pt成分的确定 | 第41页 |
| 3.4 硬磁层CoPt样品的表征 | 第41-42页 |
| 3.5 小结 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |
| 第四章 CoIr软磁层对硬磁层磁性的调控 | 第45-58页 |
| 4.1 CoPt/CoIr复合介质的制备 | 第45-46页 |
| 4.2 CoPt/CoIr复合介质的微观形貌及结构 | 第46-47页 |
| 4.3 CoPt/CoIr复合介质的静态磁性表征 | 第47-50页 |
| 4.4 CoPt/CoIr复合介质的理论计算 | 第50-53页 |
| 4.5 CoPt/CoIr复合介质的热稳定性 | 第53-54页 |
| 4.6 小结 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第五章 中间层Pt对硬磁层和软磁层耦合强度的调节 | 第58-68页 |
| 5.1 样品的制备 | 第58-59页 |
| 5.2 CoPt/Pt/CoIr复合样品的微观结构 | 第59-60页 |
| 5.3 CoPt/Pt(tnm)/CoIr(6nm)复合介质的晶体结构和静态磁性 | 第60-61页 |
| 5.4 CoPt/Pt(tnm)/CoIr(3nm)复合介质的晶体结构和静态磁性 | 第61-62页 |
| 5.5 CoPt/Pt(tnm)/CoIr(4nm)复合介质的晶体结构和静态磁性 | 第62-64页 |
| 5.6 比较三组不同CoIr厚度的复合介质的磁性质 | 第64页 |
| 5.7 CoPt/Pt/CoIr复合介质的热稳定性 | 第64-65页 |
| 5.8 小结 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-68页 |
| 第六章 结论和展望 | 第68-69页 |
| 6.1 结论 | 第68页 |
| 6.2 展望 | 第68-69页 |
| 在学期间的研究成果 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
