| 中文摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-12页 |
| 1.1.1 磁性半导体 | 第9-10页 |
| 1.1.2 ZnO 基DMS 磁性来源 | 第10-11页 |
| 1.1.3 ZnO 基DMS 的共掺杂体系 | 第11-12页 |
| 1.2 ZnO 的基本性质和特点 | 第12-14页 |
| 1.2.1 ZnO 的基本性质 | 第12-13页 |
| 1.2.2 ZnO 薄膜的制备和应用 | 第13-14页 |
| 1.3 离子注入技术及应用 | 第14-16页 |
| 1.3.1 离子注入技术 | 第14-16页 |
| 1.3.2 离子注入技术的广泛应用 | 第16页 |
| 1.4 本论文的主要研究内容及意义 | 第16-18页 |
| 第二章 实验过程及测试手段 | 第18-33页 |
| 2.1 氧化锌薄膜的制备 | 第18-20页 |
| 2.2 离子注入过程 | 第20-24页 |
| 2.2.1 离子注入机系统 | 第20-22页 |
| 2.2.2 离子注入基本原理及模拟 | 第22-24页 |
| 2.3 样品的热处理和各种测试手段及基本原理 | 第24-33页 |
| 2.3.1 X 射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
| 2.3.2 紫外可见分光光度计(UV-vis) | 第25-27页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜（SEM） | 第27-28页 |
| 2.3.4 光致发光谱仪（PL） | 第28-29页 |
| 2.3.5 X 射线光电子能谱分析（XPS） | 第29-31页 |
| 2.3.6 物理性质测试系统（PPMS） | 第31-33页 |
| 第三章 Fe和C离子双注入ZnO薄膜的表面形貌、结构及化学成分的分析 | 第33-46页 |
| 3.1 扫描电子显微镜（SEM）结果与分析 | 第33-35页 |
| 3.2 电子能量色散谱（EDX）结果与分析 | 第35-37页 |
| 3.3 X 射线衍射(XRD)结果与分析 | 第37-41页 |
| 3.4 X 光电子能谱(XPS)结果与分析 | 第41-45页 |
| 3.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 Fe和C离子双注入ZnO薄膜光学性质和磁学性质结果研究与分析 | 第46-58页 |
| 4.1 紫外可见(UV-Vis)测试结果 | 第46-47页 |
| 4.2 光学带隙的计算与分析 | 第47-50页 |
| 4.3 光致发光(PL)结果分析与讨论 | 第50-53页 |
| 4.4 物理性能测试(PPMS)——磁性测试 | 第53-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-68页 |
| 致谢 | 第68页 |