壁画线描画的生成框架及临摹工具的研究及开发
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第一章 绪论 | 第8-12页 |
1.1 引言 | 第8-9页 |
1.2 线描生成及临摹现状 | 第9页 |
1.3 本文的主要工作 | 第9-10页 |
1.4 本文的组织结构 | 第10-12页 |
第二章 相关工作及技术 | 第12-18页 |
2.1 图像分割技术 | 第12-13页 |
2.2 图像抠图技术 | 第13-14页 |
2.3 图像拼接技术 | 第14页 |
2.4 轮廓检测技术 | 第14-15页 |
2.5 层次化壁画线描画生成框架 | 第15-16页 |
2.6 绘画工具研究 | 第16-18页 |
第三章 优化的壁画线描画生成框架 | 第18-33页 |
3.1 壁画线描画生成框架 | 第18-22页 |
3.2 壁画背景抠图 | 第22-29页 |
3.3 线描图拼接 | 第29-32页 |
3.4 本章小结 | 第32-33页 |
第四章 壁画线描画临摹 | 第33-40页 |
4.1 壁画线描画临摹流程 | 第33-34页 |
4.2 壁画平滑处理 | 第34-35页 |
4.3 壁画分割处理 | 第35-36页 |
4.4 壁画线描提取 | 第36-38页 |
4.5 壁画轮廓检测 | 第38页 |
4.6 壁画矢量处理 | 第38-39页 |
4.7 本章小结 | 第39-40页 |
第五章 壁画线描画临摹工具分析与设计 | 第40-52页 |
5.1 临摹工具需求分析 | 第40页 |
5.2 临摹工具功能设计 | 第40-43页 |
5.3 临摹工具详细设计 | 第43-44页 |
5.4 临摹工具实现及展示 | 第44-51页 |
5.5 本章小结 | 第51-52页 |
第六章 总结与展望 | 第52-53页 |
参考文献 | 第53-56页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第56-57页 |
致谢 | 第57页 |