| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1.绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 光调制技术的国内外研究现状 | 第9-13页 |
| 1.2.1 内调制的研究现状 | 第9-10页 |
| 1.2.2 电光调制技术的研究现状 | 第10-13页 |
| 1.3 电光调制的关键技术 | 第13页 |
| 1.4 课题研究的目的和意义 | 第13-14页 |
| 1.5 本文主要研究内容 | 第14-17页 |
| 2.电光调制技术的基本理论 | 第17-27页 |
| 2.1 光调制的分类及其特点 | 第17-18页 |
| 2.2 电光调制器的工作原理 | 第18-22页 |
| 2.2.1 电光效应 | 第18-21页 |
| 2.2.2 电光调制工作过程 | 第21页 |
| 2.2.3 电光调制的分类 | 第21-22页 |
| 2.3 电光调制线性工作点的确定 | 第22-25页 |
| 2.3.1 半波电压 | 第23页 |
| 2.3.2 线性工作点的选择 | 第23-25页 |
| 2.4 电光调制器的电学性能 | 第25-26页 |
| 2.4.1 外电路对调制带宽的影响 | 第25-26页 |
| 2.4.2 高频率调制时渡越时间的影响 | 第26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-27页 |
| 3.电光调制器驱动源电路的设计 | 第27-47页 |
| 3.1 驱动源电路的整体设计理论 | 第27-28页 |
| 3.2 驱动源电路各部分的设计原理及方法 | 第28-45页 |
| 3.2.1 信号发生电路的设计 | 第28-38页 |
| 3.2.2 信号放大电路设计 | 第38-41页 |
| 3.2.3 直流稳压源的设计 | 第41-43页 |
| 3.2.4 直流偏置电路的设计 | 第43-44页 |
| 3.2.5 直流偏置电压的自动控制 | 第44-45页 |
| 3.3 本章小结 | 第45-47页 |
| 4.电光调制器的温度效应 | 第47-53页 |
| 4.1 温度对铌酸锂晶体的折射率及其电光系数的影响 | 第47-48页 |
| 4.1.1 温度对晶体折射率的影响 | 第47-48页 |
| 4.2 温度对调制器的输出光强度的影响 | 第48-51页 |
| 4.2.1 铌酸锂晶体的热膨胀 | 第48页 |
| 4.2.2 温度对电光调制器的出射光强度的影响 | 第48-51页 |
| 4.3 温度对电光调制器透射率的影响 | 第51-52页 |
| 4.3.1 温度对电光晶体相位延迟量的影响 | 第51页 |
| 4.3.2 温度对光透射率的影响 | 第51-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 5.电光调制通信实验研究 | 第53-61页 |
| 5.1 电光调制实验系统简介 | 第53-55页 |
| 5.2 电光调制驱动源各部分电路分析与测试 | 第55-57页 |
| 5.3 电光调制实验及线性工作点的确定 | 第57-59页 |
| 5.4 实验结果分析与处理 | 第59-60页 |
| 5.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 6.总结与展望 | 第61-63页 |
| 6.1 总结 | 第61页 |
| 6.2 不足与改进 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |