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氢同位素在铜及其合金中的滞留渗透行为研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第10-24页
    1.1 引言第10-13页
    1.2 铜及其合金应用与性能研究现状第13-18页
    1.3 氢同位素在聚变材料中渗透滞留的研究现状第18-21页
        1.3.1 渗透研究现状第18-20页
        1.3.2 滞留研究现状第20-21页
    1.4 论文主要研究内容第21-24页
第二章 铜及其合金的滞留性能研究第24-46页
    2.1 研究方法第24-29页
        2.1.1 气相充氘与热脱附谱实验第24-26页
        2.1.2 场发射扫描电子显微镜观察微观结构第26-28页
        2.1.3 氧氮分析测试第28-29页
    2.2 铜及其合金的滞留行为研究第29-34页
        2.2.1 实验内容第29-32页
        2.2.2 实验结果第32-34页
    2.3 讨论第34-43页
        2.3.1 Al_2O_3弥散强化铜合金滞留行为分析第35-39页
        2.3.2 CuCrZr合金滞留行为分析第39-40页
        2.3.3 无氧铜滞留行为分析第40-43页
    2.4 本章小结第43-46页
第三章 氘在Al_2O_3弥散强化铜合金中的渗透行为研究第46-59页
    3.1 氢同位素的气相渗透第46-50页
        3.1.1 渗透率Φ的理论推导第46-47页
        3.1.2 扩散系数D的理论推导第47-49页
        3.1.3 阿累尼乌斯(Arrhenius)经验公式与标定第49-50页
    3.2 氘气驱动渗透实验方法第50-54页
    3.3 氘气驱动渗透实验结果第54-55页
    3.4 讨论第55-58页
    3.5 本章小结第58-59页
第四章 结论第59-61页
    4.1 全文总结第59-60页
    4.2 论文创新点第60页
    4.3 工作展望第60-61页
参考文献第61-68页
致谢第68-70页
攻读学位期间发表的学术论文第70页

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