| 摘要 | 第2-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 选题的背景及意义 | 第8页 |
| 1.2 研究的主要目的及内容 | 第8-10页 |
| 1.2.1 研究目的 | 第8-9页 |
| 1.2.2 主要内容 | 第9-10页 |
| 1.3 国内外关于离子镀控制系统的研究现状 | 第10-12页 |
| 2 电弧离子源镀膜技术 | 第12-19页 |
| 2.1 电弧与电弧放电 | 第12-13页 |
| 2.1.1 电弧 | 第12-13页 |
| 2.1.2 电弧放电 | 第13页 |
| 2.2 电弧源与电弧离子镀 | 第13-15页 |
| 2.2.1 电弧源 | 第13-14页 |
| 2.2.2 电弧离子镀 | 第14-15页 |
| 2.3 电弧离子镀膜技术 | 第15-19页 |
| 2.3.1 电弧离子镀膜技术的优点 | 第16页 |
| 2.3.2 电弧离子镀膜技术的应用 | 第16-19页 |
| 3 直流电弧离子源结构的设计与优化 | 第19-26页 |
| 3.1 电弧离子源的主要参数设定 | 第19页 |
| 3.2 电弧离子源引弧结构的优化 | 第19-22页 |
| 3.2.1 原引弧结构介绍 | 第19-21页 |
| 3.2.2 引弧结构的优化处理 | 第21-22页 |
| 3.3 电弧离子源水冷系统的优化 | 第22-23页 |
| 3.4 电弧离子源的整体结构的优化 | 第23-24页 |
| 3.5 电弧源零部件材料的选取 | 第24-25页 |
| 3.6 小结 | 第25-26页 |
| 4 基于PLC电弧源控制系统的硬件设计 | 第26-43页 |
| 4.1 PLC技术简介 | 第26-27页 |
| 4.2 控制方案的选取 | 第27-28页 |
| 4.2.1 PLC控制系统的优点 | 第27-28页 |
| 4.2.2 PLC控制系统相对于继电器控制电路的优点 | 第28页 |
| 4.2.3 PLC控制系统相对于单片机控制电路的优点 | 第28页 |
| 4.2.4 小结 | 第28页 |
| 4.3 PLC型号的选择 | 第28-30页 |
| 4.3.1 选型原则 | 第29页 |
| 4.3.2 PLC型号选取论证 | 第29-30页 |
| 4.4 控制系统整体硬件设计框图 | 第30-31页 |
| 4.5 高压脉冲电源的搭建 | 第31-39页 |
| 4.5.1 电压幅值调节 | 第32页 |
| 4.5.2 电压输出和监测 | 第32-33页 |
| 4.5.3 高压脉冲形成电路的设计 | 第33-34页 |
| 4.5.4 比较环节电路设计 | 第34-35页 |
| 4.5.5 电路仿真 | 第35-38页 |
| 4.5.6 PCB板的成品检测 | 第38-39页 |
| 4.5.7 抗干扰设计 | 第39页 |
| 4.6 偏转磁场控制信号优化装置的设计 | 第39-41页 |
| 4.6.1 锯齿波的产生原理 | 第40-41页 |
| 4.6.2 锯齿波发生装置的设计过程 | 第41页 |
| 4.6.3 PLC控制电路设计 | 第41页 |
| 4.7 小结 | 第41-43页 |
| 5 电弧源控制系统的软件设计 | 第43-56页 |
| 5.1 电弧离子镀膜技术工艺流程 | 第43-44页 |
| 5.2 上位机与PLC的通讯程序设计 | 第44-49页 |
| 5.3 监控界面设计 | 第49-50页 |
| 5.4 PLC程序编写 | 第50-53页 |
| 5.4.1 镀膜工艺程序的编写 | 第50-52页 |
| 5.4.2 梯形图程序仿真 | 第52-53页 |
| 5.5 程序调试 | 第53-56页 |
| 5.5.1 锯齿波波形调试 | 第53-54页 |
| 5.5.2 锯齿波的幅值和周期的调试 | 第54-56页 |
| 6 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 致谢 | 第61-63页 |