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AZO靶材热压致密化过程研究

摘要第1-7页
Abstract第7-12页
1 绪论第12-33页
   ·太阳能电池产业化发展第12-14页
     ·薄膜太阳能电池的发展第12页
     ·AZO透明导电薄膜的性质与应用第12-13页
     ·薄膜原材料的研究进展第13-14页
   ·ZnO的基本性质第14-16页
     ·ZnO的结构第14-16页
     ·ZnO的物理性质第16页
   ·ZnO的掺杂第16-19页
     ·ZnO的本征缺陷第16-17页
     ·ZnO的非故意掺杂第17页
     ·ZnO的施主掺杂第17页
     ·ZnO的受主掺杂第17页
     ·ZnO的共掺杂第17-18页
     ·Al掺杂ZnO的基本性质与应用第18-19页
   ·AZO溅射靶材制备技术第19-27页
     ·溅射靶材的原料第19-22页
     ·溅射靶材的致密化研究进展第22-27页
     ·溅射靶材的基本性能要求第27页
   ·AZO薄膜制备技术第27-32页
     ·溅射的基本原理与方法第27-29页
     ·薄膜性能的影响因素第29-31页
     ·AZO薄膜研究工作的发展趋势和方向第31-32页
   ·课题研究目的与意义第32-33页
2 AZO溅射靶材的制备与性能表征方法第33-42页
   ·AZO靶材的原料制备第33-34页
     ·机械合金化原理第33页
     ·机械合金化的影响因素第33-34页
     ·机械合金化设备与工艺参数第34页
   ·AZO溅射靶材的制备第34-37页
     ·靶材的制备方法第34-36页
     ·热压烧结实验设备第36-37页
     ·热压烧结工艺参数第37页
   ·靶材性能表征原理与方法第37-42页
     ·成分分布第37-38页
     ·晶体结构第38页
     ·显微形貌第38页
     ·体积密度第38-39页
     ·孔径分布第39-40页
     ·晶粒尺寸第40-41页
     ·电阻率第41-42页
3 AZO透明导电薄膜的制备与性能表征方法第42-47页
   ·AZO透明导电薄膜的制备第42-45页
     ·射频磁控溅射装置第42页
     ·射频磁控溅射工艺参数第42-43页
     ·射频磁控溅射操作流程第43-44页
     ·射频磁控溅射制备AZO薄膜第44-45页
   ·薄膜性能表征原理与方法第45-47页
     ·沉积速率第45页
     ·电阻率第45-46页
     ·透光率第46-47页
4 实验结果与分析第47-93页
   ·原料粉的性能表征第47-53页
     ·原料粉的物相结构第47-51页
     ·原料粉的显微形貌第51页
     ·原料粉的成分分布第51-53页
   ·AZO靶材热压致密化过程第53-72页
     ·AZO靶材的致密度第53-56页
     ·AZO靶材的气孔演化第56-68页
     ·AZO靶材的晶粒生长第68-72页
   ·AZO靶材热压工艺优化第72-82页
     ·改进热压工艺的靶材致密化过程第72-78页
     ·改进前后工艺对比第78-79页
     ·致密化过程综合分析第79-81页
     ·高密度靶材的制备第81-82页
   ·AZO热压靶材的成分与结构分析第82-85页
     ·AZO靶材的成分分布第82-84页
     ·AZO靶材的物相结构第84-85页
   ·AZO热压靶材镀膜测试第85-93页
     ·AZO靶材孔隙率对薄膜沉积速率的影响第85页
     ·AZO靶材孔隙率对薄膜电阻率的影响第85-87页
     ·AZO靶材孔隙率对薄膜透光率的影响第87-89页
     ·AZO靶材孔径分布对薄膜性能的影响第89页
     ·AZO薄膜显微形貌和结构分析第89-91页
     ·AZO靶材的使用寿命第91-93页
结论第93-95页
参考文献第95-102页
攻读硕士学位期间取得的学术成果第102-103页
致谢第103页

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