摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
1 绪论 | 第15-34页 |
1.1 研究背景及意义 | 第15-17页 |
1.2 研究现状及进展 | 第17-32页 |
1.2.1 激光与透明光学材料相互作用机理研究 | 第17-24页 |
1.2.2 激光对透明光学材料进行刻蚀的研究进展 | 第24-28页 |
1.2.3 多脉冲激光对透明光学材料打孔的研究进展 | 第28-32页 |
1.3 本文主要研究工作 | 第32-34页 |
2 不同聚焦位置对纳秒激光与K9玻璃相互作用的影响 | 第34-43页 |
2.1 实验研究 | 第34-37页 |
2.1.1 实验装置及方法 | 第34-35页 |
2.1.2 实验结果与分析 | 第35-37页 |
2.2 数值模拟 | 第37-41页 |
2.2.1 模型建立 | 第37-38页 |
2.2.2 控制方程 | 第38-39页 |
2.2.3 数值模拟结果 | 第39-41页 |
2.3 本章小结 | 第41-43页 |
3 利用有机吸收介质薄膜对熔融石英进行激光背面干法刻蚀 | 第43-66页 |
3.1 利用有机吸收介质薄膜实现多脉冲激光背面干法刻蚀 | 第43-50页 |
3.1.1 实验装置与方法 | 第43-45页 |
3.1.2 实验结果 | 第45-50页 |
3.2 约束环境对激光背面干法刻蚀熔融石英的影响 | 第50-55页 |
3.2.1 实验装置与方法 | 第51-52页 |
3.2.2 实验结果 | 第52-55页 |
3.3 表面改性层对刻蚀的影响 | 第55-59页 |
3.4 分析与讨论 | 第59-65页 |
3.4.1 空气约束下的MP-LIBDE刻蚀过程分析 | 第59-62页 |
3.4.2 水环境约束下的MP-LIBDE刻蚀过程的分析 | 第62-64页 |
3.4.3 表面改性层性质的讨论 | 第64-65页 |
3.5 本章小结 | 第65-66页 |
4 毫秒激光辐照光学元件时温度场和应力场的数值模拟 | 第66-76页 |
4.1 模型建立 | 第66-67页 |
4.2 控制方程 | 第67-71页 |
4.2.1 温度场控制方程 | 第67-68页 |
4.2.2 米氏散射理论 | 第68-69页 |
4.2.3 应力场控制方程 | 第69-71页 |
4.3 温度场与应力场的数值模拟结果 | 第71-73页 |
4.3.1 温度场及其分布 | 第71-72页 |
4.3.2 应力场及其分布 | 第72-73页 |
4.4 与实验结果的对比 | 第73-75页 |
4.6 本章小结 | 第75-76页 |
5 组合脉冲激光加工光学玻璃研究 | 第76-93页 |
5.1 实验装置及方法 | 第76-78页 |
5.1.1 组合脉冲激光的定义 | 第76-77页 |
5.1.2 实验装置 | 第77-78页 |
5.2 加工形貌特征 | 第78-79页 |
5.3 组合脉冲激光延时对加工效率的影响 | 第79-82页 |
5.3.1 Δt<0的组合脉冲激光作用结果 | 第79-80页 |
5.3.2 Δt>0的组合脉冲激光作用结果 | 第80-82页 |
5.4 组合脉冲激光中ms激光能量密度的影响 | 第82-83页 |
5.5 组合脉冲激光延时对加工尺寸的影响 | 第83-84页 |
5.6 组合脉冲激光作用机理分析 | 第84-92页 |
5.6.1 延时Δt<0时的激光作用机理 | 第85-89页 |
5.6.2 延时Δt>0时的激光作用机理 | 第89-90页 |
5.6.3 激光支持燃烧波对加工效果的影响 | 第90-92页 |
5.7 本章小结 | 第92-93页 |
6 总结与展望 | 第93-95页 |
6.1 总结 | 第93-94页 |
6.2 研究展望 | 第94-95页 |
致谢 | 第95-97页 |
参考文献 | 第97-111页 |
附录 | 第111-112页 |