| 摘要 | 第3-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 VOCs污染 | 第10-11页 |
| 1.2 VOCs来源与危害 | 第11-12页 |
| 1.3 VOCs污染治理现状 | 第12-17页 |
| 1.3.1 法律措施 | 第12页 |
| 1.3.2 控制技术 | 第12-17页 |
| 1.4 半导体光催化的原理及研究进展 | 第17-19页 |
| 1.4.1 半导体光催化的原理 | 第17-18页 |
| 1.4.2 半导体光催化的研究进展 | 第18-19页 |
| 1.5 复合半导体材料的研究现况 | 第19-20页 |
| 1.6 太阳能吸收材料 | 第20-21页 |
| 1.7 石墨相氮化碳(g-C_3N_4) | 第21页 |
| 1.8 研究目的及内容 | 第21-23页 |
| 1.8.1 研究目的 | 第21页 |
| 1.8.2 研究内容 | 第21-23页 |
| 2 实验设计 | 第23-33页 |
| 2.1 实验材料 | 第23-24页 |
| 2.1.1 化学试剂 | 第23页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第23-24页 |
| 2.2 催化剂的制备与表征 | 第24-28页 |
| 2.2.1 催化剂制备 | 第24-25页 |
| 2.2.2 催化剂表征 | 第25-28页 |
| 2.3 实验方案 | 第28-30页 |
| 2.3.1 实验装置 | 第28-29页 |
| 2.3.2 实验方法 | 第29-30页 |
| 2.4 分析方法 | 第30-32页 |
| 2.4.1 仪器参数确定 | 第30-31页 |
| 2.4.2 甲苯标准曲线绘制 | 第31-32页 |
| 2.5 本章小结 | 第32-33页 |
| 3 CoCuMnO_x/g-C_3N_4光催化活性研究 | 第33-50页 |
| 3.1 卤钨灯下光催化活性测定 | 第33-38页 |
| 3.1.1 焙烧温度的选择 | 第33-34页 |
| 3.1.2 最佳复合比的选择 | 第34-35页 |
| 3.1.3 光解、暗吸附对降解效果影响 | 第35-36页 |
| 3.1.4 污染物初始浓度的影响 | 第36-37页 |
| 3.1.5 卤钨灯下催化剂的光稳定性研究 | 第37-38页 |
| 3.2 太阳光下催化剂活性研究 | 第38-43页 |
| 3.2.1 光照强度、环境温度与时间之间关系 | 第38-39页 |
| 3.2.2 催化剂活性与甲苯冷凝量、环境温度及光照强度之间的关系 | 第39-40页 |
| 3.2.3 空气湿度影响 | 第40-41页 |
| 3.2.4 无机酸影响 | 第41-42页 |
| 3.2.5 太阳光下催化剂稳定性研究 | 第42-43页 |
| 3.3 表征分析 | 第43-48页 |
| 3.3.1 X-射线粉末衍射(XRD) | 第43-45页 |
| 3.3.2 比表面积及孔径分析(BET) | 第45页 |
| 3.3.3 扫描电镜图(SEM) | 第45-46页 |
| 3.3.4 紫外-可见漫反射光谱(UV_(-vis) DRS) | 第46-47页 |
| 3.3.5 傅里叶红外光谱(FT-IR) | 第47-48页 |
| 3.3.6 X射线荧光光谱(XRF) | 第48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 4 甲苯光催化降解动力学、降解机理及途径 | 第50-58页 |
| 4.1 甲苯气相光催化反应动力学 | 第50-53页 |
| 4.1.1 甲苯初始浓度影响 | 第50页 |
| 4.1.2 催化剂重复利用周期对降解效果影响 | 第50-51页 |
| 4.1.3 甲苯气相光催化反应动力学参数研究 | 第51-53页 |
| 4.2 气相光催化降解甲苯的机理研究 | 第53-54页 |
| 4.3 甲苯降解途径分析 | 第54-56页 |
| 4.3.1 中间产物测定 | 第54-55页 |
| 4.3.2 甲苯降解途径 | 第55-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 5 结论与建议 | 第58-60页 |
| 5.1 结论 | 第58-59页 |
| 5.2 建议 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-68页 |
| 附录 硕士研究生学习阶段发表论文 | 第68页 |
