非晶宽带制备工艺的研究
摘要 | 第3-4页 |
ABSTRACT | 第4-5页 |
1 绪论 | 第8-12页 |
1.1 非晶材料 | 第8页 |
1.2 非晶材料的发展 | 第8-9页 |
1.3 非晶材料特点与用途 | 第9-10页 |
1.4 铁基非晶合金 | 第10-11页 |
1.5 选题意义与创新点 | 第11-12页 |
2 实验原理与方法 | 第12-21页 |
2.1 制备方法 | 第12页 |
2.2 非晶宽带的制备 | 第12-13页 |
2.3 自动卷曲系统 | 第13-17页 |
2.4 检测手段 | 第17-21页 |
2.4.1 X射线衍射分析 | 第17页 |
2.4.2 光谱仪 | 第17-18页 |
2.4.3 台阶仪 | 第18-19页 |
2.4.4 磁性能测量装置 | 第19-21页 |
3 非晶宽带制备的工艺参数 | 第21-32页 |
3.1 喷嘴的形状和尺寸 | 第21-27页 |
3.1.1 喷嘴缝隙长度与带宽的关系 | 第21-22页 |
3.1.2 喷嘴缝隙宽度与薄带厚度的关系 | 第22-23页 |
3.1.3 喷嘴弧度对薄带横向均匀度的影响 | 第23-24页 |
3.1.4 喷嘴弧度与薄带横向均匀度的关系 | 第24-27页 |
3.2 合金熔体温度 | 第27-29页 |
3.3 中间包液位的高度 | 第29页 |
3.4 喷嘴与铜辊的间距 | 第29-30页 |
3.5 铜辊转速 | 第30-31页 |
3.6 本章小结 | 第31-32页 |
4 薄带性能表征 | 第32-41页 |
4.1 检验标准 | 第32页 |
4.2 化学成分分析 | 第32-33页 |
4.3 弯曲韧性测试 | 第33-34页 |
4.4 薄带外形及表面质量观察 | 第34-36页 |
4.5 尺寸分析 | 第36-38页 |
4.5.1 薄带宽度的分析 | 第36页 |
4.5.2 纵向均匀性 | 第36-37页 |
4.5.3 横向均匀性 | 第37-38页 |
4.6 XRD表征 | 第38页 |
4.7 磁性能测量 | 第38-39页 |
4.8 本章小结 | 第39-41页 |
5 总结与展望 | 第41-43页 |
参考文献 | 第43-47页 |
附录A 非晶宽带制备流程及注意事项 | 第47-52页 |
致谢 | 第52-54页 |