| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 TiO_2的结构与性质 | 第12-13页 |
| 1.3 TiO_2薄膜的光催化原理 | 第13-14页 |
| 1.4 TiO_2薄膜的掺杂与改性 | 第14-16页 |
| 1.4.1 金属掺杂 | 第14-15页 |
| 1.4.2 非金属掺杂 | 第15页 |
| 1.4.3 半导体复合 | 第15-16页 |
| 1.4.4 稀土元素掺杂 | 第16页 |
| 1.5 TiO_2薄膜的制备方法 | 第16-20页 |
| 1.5.1 溶胶-凝胶法 | 第17页 |
| 1.5.2 化学气相沉积法 | 第17-18页 |
| 1.5.3 液相沉积法 | 第18页 |
| 1.5.4 热氧化法 | 第18-19页 |
| 1.5.5 溅射法 | 第19-20页 |
| 1.6 本论文主要的研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 TiO_2光触媒薄膜的制备及表征方法 | 第21-37页 |
| 2.1 TiO_2光触媒薄膜的制备 | 第21-26页 |
| 2.1.1 多频多靶射频磁控溅射等离子体技术简介 | 第21-22页 |
| 2.1.2 磁控共溅射原理 | 第22-23页 |
| 2.1.3 实验设备及制备方法 | 第23-25页 |
| 2.1.4 薄膜样品的退火后处理 | 第25-26页 |
| 2.2 薄膜的表征方法 | 第26-32页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜（SEM） | 第26-27页 |
| 2.2.2 X射线衍射（XRD） | 第27-28页 |
| 2.2.3 原子力显微镜（AFM） | 第28-29页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱（XPS） | 第29-30页 |
| 2.2.5 紫外-可见-近红外分光光度计 | 第30-31页 |
| 2.2.6 光谱式椭偏仪 | 第31-32页 |
| 2.3 等离子体性能诊断分析 | 第32-37页 |
| 2.3.1 发射光谱诊断 | 第32-34页 |
| 2.3.2 减速场能量分析仪（RFEA）测量 | 第34-37页 |
| 第三章 TiO_2薄膜的结构及性质 | 第37-50页 |
| 3.1 13.56 MHz射频电源Ti O_2薄膜沉积 | 第37-44页 |
| 3.1.1 TiO_2薄膜的XRD分析 | 第38-40页 |
| 3.1.2 TiO_2薄膜的SEM分析 | 第40-42页 |
| 3.1.3 TiO_2薄膜的椭偏仪分析 | 第42-43页 |
| 3.1.4 TiO_2薄膜的UV-Vis分析 | 第43-44页 |
| 3.2 60 MHz射频电源Ti O_2薄膜沉积 | 第44-50页 |
| 3.2.1 TiO_2薄膜的XRD分析 | 第45-47页 |
| 3.2.2 TiO_2薄膜的椭偏仪分析 | 第47-48页 |
| 3.2.3 TiO_2薄膜的XPS分析 | 第48-50页 |
| 第四章 Er掺杂TiO_2薄膜的结构及性质 | 第50-58页 |
| 4.1 Er掺杂TiO_2薄膜的XPS分析 | 第50-52页 |
| 4.2 Er掺杂TiO_2薄膜的椭偏仪分析 | 第52-53页 |
| 4.3 Er掺杂TiO_2薄膜的XRD分析 | 第53-54页 |
| 4.4 Er掺杂TiO_2薄膜的SEM分析 | 第54-55页 |
| 4.5 Er掺杂TiO_2薄膜的UV-Vis分析 | 第55-58页 |
| 第五章 TiO_2及Er掺杂TiO_2薄膜的蓝光激发性能研究 | 第58-61页 |
| 5.1 蓝光激发光电流测量系统 | 第58-59页 |
| 5.2 13.56 MHz射频电源TiO_2薄膜蓝光激发性能 | 第59页 |
| 5.3 60 MHz射频电源TiO_2薄膜蓝光激发性能 | 第59-60页 |
| 5.4 Er掺杂TiO_2薄膜蓝光激发性能 | 第60-61页 |
| 第六章 Er掺杂TiO_2薄膜沉积的等离子体特性关联研究 | 第61-67页 |
| 6.1 减速场能量分析仪分析 | 第61-64页 |
| 6.2 光谱仪分析 | 第64-67页 |
| 第七章 结论 | 第67-69页 |
| 7.1 本文研究的主要结果 | 第67-68页 |
| 7.2 存在的主要问题和进一步的研究方向 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-76页 |
| 攻读硕士学位期间公开发表的论文及科研成果 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
