摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
目录 | 第9-12页 |
第1章 绪论 | 第12-25页 |
1.1 镁合金的特点及其应用 | 第12-14页 |
1.1.1 镁及镁合金的特性 | 第12-13页 |
1.1.2 镁合金的应用现状 | 第13-14页 |
1.2 镁合金的表面处理技术 | 第14-16页 |
1.2.1 阳极氧化处理 | 第15页 |
1.2.2 化学转化膜处理 | 第15页 |
1.2.3 金属涂镀处理 | 第15-16页 |
1.2.4 涂敷处理 | 第16页 |
1.2.5 激光表面处理 | 第16页 |
1.3 微弧氧化处理技术 | 第16-22页 |
1.3.1 微弧氧化过程的基本原理及成膜过程 | 第17-18页 |
1.3.2 微弧氧化技术的特点 | 第18-19页 |
1.3.3 微弧氧化电源 | 第19页 |
1.3.4 微弧氧化电解液 | 第19-20页 |
1.3.5 镁合金的微弧氧化处理研究现状 | 第20-22页 |
1.3.6 镁合金微弧氧化膜的摩擦磨损特性研究现状 | 第22页 |
1.4 研究的意义及主要内容 | 第22-24页 |
1.5 研究的创新之处 | 第24页 |
1.6 实验技术路线图 | 第24-25页 |
第2章 实验材料、方法及设备 | 第25-29页 |
2.1 实验材料及试剂 | 第25页 |
2.2 微弧氧化试样预处理 | 第25-26页 |
2.3 微弧氧化装置 | 第26-27页 |
2.4 微弧氧化陶瓷膜的结构及性能表征 | 第27-29页 |
2.4.1 陶瓷膜层厚度测量 | 第27页 |
2.4.2 陶瓷膜层结合力测量 | 第27-28页 |
2.4.3 陶瓷膜层物相分析 | 第28页 |
2.4.4 膜层微观形貌观察及能谱分析 | 第28页 |
2.4.5 微弧氧化陶瓷膜层摩擦学特性表征 | 第28-29页 |
第3章 镁合金微弧氧化工艺优化及膜层结合力分析 | 第29-41页 |
3.1 电解液的优化 | 第29-33页 |
3.1.1 电解液成分的选择 | 第29-30页 |
3.1.2 电解液配方的确定 | 第30-32页 |
3.1.3 最佳配方下膜层相组成及形貌观察 | 第32-33页 |
3.2 微弧氧化电参数对膜层厚度和膜层结合力的影响规律 | 第33-37页 |
3.2.1 时间对膜层厚度和膜层结合力的影响 | 第34-35页 |
3.2.2 电流密度对膜层厚度和膜层结合力的影响 | 第35-36页 |
3.2.3 频率对膜层厚度和膜层结合力的影响 | 第36-37页 |
3.2.4 占空比对膜层厚度和膜层结合力的影响 | 第37页 |
3.3 陶瓷膜层表面划痕的分析 | 第37-40页 |
3.4 本章小结 | 第40-41页 |
第4章 微弧氧化陶瓷膜的结构特性及形成过程研究 | 第41-67页 |
4.1 微弧氧化中的火花放电现象 | 第42-44页 |
4.2 微弧氧化陶瓷膜的表面形貌分析 | 第44-49页 |
4.3 膜层表面裂纹的扩展形态 | 第49-50页 |
4.4 膜层表面的孔隙率和孔径分布 | 第50-52页 |
4.5 微弧氧化过程中的物相变化分析 | 第52-54页 |
4.6 微弧氧化陶瓷膜表面、截面EDS分析 | 第54-59页 |
4.7 微弧氧化膜层内部形貌观察及其形成过程分析 | 第59-61页 |
4.8 表层陶瓷凝固形成的特殊花样分析 | 第61-62页 |
4.9 微弧氧化陶瓷膜的形成过程初探 | 第62-66页 |
4.9.1 等离子体的形成及火花放电 | 第62-65页 |
4.9.2 陶瓷膜的生长机制 | 第65-66页 |
4.10 本章小结 | 第66-67页 |
第5章 微弧氧化陶瓷膜的摩擦磨损特性及磨损机理研究 | 第67-82页 |
5.1 陶瓷膜层的预磨处理 | 第67-69页 |
5.2 干摩擦条件下镁合金微弧氧化膜的摩擦磨损特性 | 第69-75页 |
5.2.1 不同载荷下的磨损规律 | 第70-72页 |
5.2.2 不同速度下的磨损规律 | 第72-73页 |
5.2.3 不同滑动路程的磨损规律 | 第73-75页 |
5.3 油润滑条件下镁合金微弧氧化膜的摩擦磨损特性 | 第75-77页 |
5.3.1 不同载荷下的磨损规律 | 第76-77页 |
5.3.2 不同速度下的磨损规律 | 第77页 |
5.4 镁合金微弧氧化陶瓷膜的磨损机理初探 | 第77-81页 |
5.4.1 疲劳磨损 | 第78-79页 |
5.4.2 磨粒磨损 | 第79-81页 |
5.5 本章小结 | 第81-82页 |
第6章 结论及存在的问题 | 第82-84页 |
6.1 结论 | 第82-83页 |
6.2 存在的问题 | 第83-84页 |
参考文献 | 第84-90页 |
致谢 | 第90页 |