| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-32页 |
| 1.1 镁及其合金的腐蚀过程 | 第10-17页 |
| 1.1.1 纯镁的腐蚀 | 第10-13页 |
| 1.1.1.1 环境因素对纯镁腐蚀的影响 | 第10-12页 |
| 1.1.1.2 杂质对纯镁腐蚀的影响 | 第12-13页 |
| 1.1.2 镁合金的腐蚀 | 第13-14页 |
| 1.1.3 镁及其合金的析氢特点 | 第14-17页 |
| 1.2 镁及其合金腐蚀阴极反应的研究方法 | 第17-18页 |
| 1.3 镁及其合金腐蚀阳极反应的研究方法 | 第18-19页 |
| 1.4 扫描电化学显微镜(SECM)及其在腐蚀科学中的应用 | 第19-25页 |
| 1.5 本论文主要研究的内容、目的及意义 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-32页 |
| 第二章 实验部分 | 第32-39页 |
| 2.1 实验材料 | 第32-33页 |
| 2.2 实验用SECM装置 | 第33-35页 |
| 2.3 产生-收集模式及反馈模式实验 | 第35-36页 |
| 2.4 极化曲线 | 第36-37页 |
| 2.5 电化学阻抗谱 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-39页 |
| 第三章 SECM产生-收集模式微区定量研究纯镁析氢 | 第39-54页 |
| 3.1 前言 | 第39-40页 |
| 3.2 实验方法 | 第40-41页 |
| 3.3 实验结果及讨论 | 第41-51页 |
| 3.3.1 极化电位对纯镁析氢的影响 | 第42-47页 |
| 3.3.2 阴离子种类及浓度对纯镁析氢的影响 | 第47-51页 |
| 3.4 本章小节 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第四章 SECM反馈模式研究纯镁腐蚀过程活性点的产生和分布 | 第54-86页 |
| 4.1 前言 | 第54页 |
| 4.2 实验方法 | 第54-56页 |
| 4.3 实验结果及讨论 | 第56-82页 |
| 4.3.1 浸泡时间对镁表面活性点产生和分布的影响 | 第56-57页 |
| 4.3.2 NaCl浓度对纯镁表面活性点产生和分布的影响 | 第57页 |
| 4.3.3 极化对纯镁表面活性点产生和分布的影响 | 第57-63页 |
| 4.3.4 溶液pH对镁表面活性点产生和分布的影响 | 第63-65页 |
| 4.3.5 面扫结果探针归一化电流的平均值和方差统计 | 第65-70页 |
| 4.3.6 极化曲线结果 | 第70-73页 |
| 4.3.7 电化学阻抗谱(EIS)结果 | 第73-82页 |
| 4.4 本章小结 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-86页 |
| 第五章 总结与展望 | 第86-89页 |
| 5.1 总结 | 第86-87页 |
| 5.2 实验中存在的不足 | 第87页 |
| 5.3 展望 | 第87-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第90页 |
