| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-24页 |
| 1.1 选题背景及研究的目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 Ni-Mn-Ga 合金的结构和相变 | 第10-12页 |
| 1.3 Ni-Mn-Ga 高温形状记忆合金的研究现状 | 第12-17页 |
| 1.4 Ni-Mn-Ga 合金薄膜的制备 | 第17-20页 |
| 1.5 Ni-Mn-Ga 合金薄膜的马氏体相变 | 第20-23页 |
| 1.6 主要研究内容 | 第23-24页 |
| 第2章 试验材料及方法 | 第24-26页 |
| 2.1 材料制备及热处理 | 第24-25页 |
| 2.2 表面形貌与化学成分分析 | 第25页 |
| 2.3 物相与微观组织的分析 | 第25页 |
| 2.4 相变温度测量 | 第25-26页 |
| 第3章 Ni-Mn-Ga-Gd 合金薄膜的制备 | 第26-41页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 制备工艺对薄膜表面形貌的影响 | 第26-30页 |
| 3.3 制备工艺对薄膜成分的影响 | 第30-32页 |
| 3.4 合金薄膜的沉积速率 | 第32-35页 |
| 3.5 沉积态薄膜的物相 | 第35-38页 |
| 3.6 薄膜的晶化行为 | 第38-39页 |
| 3.7 本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 Ni-Mn-Ga-Gd 合金薄膜的组织结构与马氏体相变 | 第41-58页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 常规退火对薄膜组织结构的影响 | 第41-46页 |
| 4.3 快速退火对薄膜组织结构的影响 | 第46-51页 |
| 4.4 薄膜的马氏体相变 | 第51-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 致谢 | 第65页 |