| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 课题的研究背景 | 第10页 |
| 1.2 抗生素的污染现状和处理技术 | 第10-17页 |
| 1.2.1 环境中抗生素来源 | 第10-11页 |
| 1.2.2 环境中抗生素的污染状况 | 第11-12页 |
| 1.2.3 抗生素去除技术研究现状 | 第12-17页 |
| 1.3 磺胺嘧啶概况 | 第17-20页 |
| 1.3.1 磺胺嘧啶简介 | 第17-18页 |
| 1.3.2 磺胺嘧啶的国内外研究现状 | 第18-20页 |
| 1.4 量子化学计算理论简介 | 第20-22页 |
| 1.4.1 量子化学发展 | 第20页 |
| 1.4.2 量子化学计算软件 | 第20-21页 |
| 1.4.3 量子化学在环境中的应用 | 第21-22页 |
| 1.5 课题的目的、意义和主要研究内容 | 第22-24页 |
| 1.5.1 研究的目的和意义 | 第22-23页 |
| 1.5.2 研究主要内容和技术路线图 | 第23-24页 |
| 第2章 实验材料和分析方法 | 第24-28页 |
| 2.1 实验材料 | 第24-25页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第24页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第24-25页 |
| 2.2 实验和检测方法 | 第25-28页 |
| 2.2.1 实验过程 | 第25-26页 |
| 2.2.2 气态臭氧浓度的测定方法 | 第26页 |
| 2.2.3 紫外辐射强度的测定方法 | 第26-27页 |
| 2.2.4 磺胺嘧啶的分析检测方法 | 第27页 |
| 2.2.5 中间产物的检测方法 | 第27页 |
| 2.2.6 计算方法 | 第27-28页 |
| 第3章 O_3、UV和UV/O_3降解水中磺胺嘧啶的效能 | 第28-41页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 O_3降解水中磺胺嘧啶的关键影响因素 | 第28-32页 |
| 3.2.1 气态臭氧浓度对O_3降解磺胺嘧啶的影响 | 第28-29页 |
| 3.2.2 溶液p H对O_3降解磺胺嘧啶的影响 | 第29-30页 |
| 3.2.3 初始浓度对O_3降解磺胺嘧啶的影响 | 第30-31页 |
| 3.2.4 O_3降解磺胺嘧啶的动力学 | 第31-32页 |
| 3.3 UV辐射降解水中磺胺嘧啶的关键影响因素 | 第32-35页 |
| 3.3.1 紫外强度对UV降解磺胺嘧啶的影响 | 第32页 |
| 3.3.2 溶液p H值对UV降解磺胺嘧啶的影响 | 第32-34页 |
| 3.3.3 初始浓度对UV降解磺胺嘧啶的影响 | 第34页 |
| 3.3.4 UV降解磺胺嘧啶的动力学 | 第34-35页 |
| 3.4 UV/O_3氧化降解水中磺胺嘧啶的关键影响因素 | 第35-40页 |
| 3.4.1 气态臭氧浓度对UV/O_3降解磺胺嘧啶的影响 | 第35-36页 |
| 3.4.2 紫外强度对UV/O_3水中降解磺胺嘧啶的影响 | 第36-37页 |
| 3.4.3 溶液p H值对UV/O_3水中降解磺胺嘧啶的影响 | 第37-38页 |
| 3.4.4 初始浓度对UV/O_3水中降解磺胺嘧啶的影响 | 第38-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 O_3、UV和UV/O_3降解水中磺胺嘧啶的机理研究 | 第41-57页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 磺胺嘧啶在O_3氧化下的降解途径 | 第41-46页 |
| 4.2.1 O_3氧化降解磺胺嘧啶的方式 | 第41-42页 |
| 4.2.2 磺胺嘧啶分子的电荷分布 | 第42-44页 |
| 4.2.3 主要氧化产物 | 第44-45页 |
| 4.2.4 磺胺嘧啶在O_3氧化条件下可能的降解途径 | 第45-46页 |
| 4.3 磺胺嘧啶在UV辐射条件下的降解途径 | 第46-48页 |
| 4.3.1 UV辐射降解磺胺嘧啶的方式 | 第46-47页 |
| 4.3.2 磺胺嘧啶在紫外辐射下可能的降解途径 | 第47-48页 |
| 4.4 磺胺嘧啶在UV/O_3下的降解途径 | 第48-56页 |
| 4.4.1 UV/O_3降解磺胺嘧啶的方式 | 第48-49页 |
| 4.4.2 磺胺嘧啶分子中可能与·OH反应的位点 | 第49-53页 |
| 4.4.3 主要氧化产物 | 第53-55页 |
| 4.4.4 磺胺嘧啶在UV/O_3工艺下可能的降解途径 | 第55-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-66页 |
| 攻读学位期间发表的论文及专利 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
