| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 ZnO基本结构及光电性质 | 第11-14页 |
| 1.1.1 ZnO晶体结构 | 第11-12页 |
| 1.1.2 ZnO光学性质 | 第12-14页 |
| 1.1.3 ZnO电学性质 | 第14页 |
| 1.2 ZnO薄膜性质及应用 | 第14-15页 |
| 1.3 AZO透明导电薄膜性质及应用 | 第15-17页 |
| 1.4 HAZO透明导电薄膜性质及应用 | 第17-18页 |
| 1.5 柔性衬底主要种类及性质 | 第18-19页 |
| 1.6 论文研究内容及意义 | 第19-21页 |
| 第2章 薄膜的制备方法及表征手段 | 第21-31页 |
| 2.1 射频磁控溅射 | 第21-23页 |
| 2.1.1 磁控溅射工作原理 | 第21-22页 |
| 2.1.2 磁控溅射设备简介 | 第22-23页 |
| 2.2 薄膜性能测试及表征 | 第23-29页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪 | 第23-24页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 | 第24-25页 |
| 2.2.3 表面轮廓仪 | 第25-26页 |
| 2.2.4 分光光度计 | 第26-27页 |
| 2.2.5 光致发光光谱仪 | 第27页 |
| 2.2.6 霍尔效应测试仪 | 第27-28页 |
| 2.2.7 纳米压痕仪 | 第28-29页 |
| 2.3 薄膜制备工艺 | 第29-31页 |
| 2.3.1 实验原材料 | 第29-30页 |
| 2.3.2 薄膜制备过程 | 第30-31页 |
| 第3章 柔性衬底表面AZO薄膜的制备工艺及其光电性能 | 第31-47页 |
| 3.1 溅射功率对柔性衬底表面AZO薄膜性能的影响 | 第31-41页 |
| 3.1.1 溅射功率对AZO薄膜结构的影响 | 第31-33页 |
| 3.1.2 溅射功率对AZO薄膜表面形貌和生长速率的影响 | 第33-35页 |
| 3.1.3 溅射功率对AZO薄膜电学性能的影响 | 第35-37页 |
| 3.1.4 溅射功率对AZO薄膜透光性能的影响 | 第37-41页 |
| 3.2 多次成膜工艺对柔性衬底表面AZO薄膜性能的影响 | 第41-46页 |
| 3.2.1 多次成膜工艺对AZO薄膜结构的影响 | 第42-43页 |
| 3.2.2 多次成膜工艺对AZO薄膜表面形貌和生长速率的影响 | 第43-44页 |
| 3.2.3 多次成膜工艺对AZO薄膜电学性能的影响 | 第44-45页 |
| 3.2.4 多次成膜工艺对AZO薄膜透光性能的影响 | 第45-46页 |
| 3.3 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 柔性衬底表面HAZO薄膜的制备工艺及其光电性能 | 第47-59页 |
| 4.1 H_2比例对柔性衬底表面HAZO薄膜性能的影响 | 第47-53页 |
| 4.1.1 H_2比例对HAZO薄膜结构的影响 | 第47-49页 |
| 4.1.2 H_2比例对HAZO薄膜表面形貌和生长速率的影响 | 第49-50页 |
| 4.1.3 H_2比例对HAZO薄膜电学性能的影响 | 第50-52页 |
| 4.1.4 H_2比例对HAZO薄膜透光性能的影响 | 第52-53页 |
| 4.2 缓冲层厚度对柔性衬底表面HAZO薄膜性能的影响 | 第53-58页 |
| 4.2.1 缓冲层厚度对HAZO薄膜结构的影响 | 第55-56页 |
| 4.2.2 缓冲层厚度对HAZO薄膜表面形貌的影响 | 第56页 |
| 4.2.3 缓冲层厚度对HAZO薄膜电学性能的影响 | 第56-57页 |
| 4.2.4 缓冲层厚度对HAZO薄膜透光性能的影响 | 第57-58页 |
| 4.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 柔性衬底表面HAZO薄膜应用性能研究 | 第59-73页 |
| 5.1 HAZO薄膜的附着力性能 | 第59-62页 |
| 5.2 HAZO薄膜的热稳定性能 | 第62-65页 |
| 5.3 HAZO薄膜的近红外区域透过性能 | 第65-71页 |
| 5.4 本章小结 | 第71-73页 |
| 第6章 结论及展望 | 第73-75页 |
| 6.1 结论 | 第73-74页 |
| 6.2 展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第82页 |
