ⅢA族羟基氧化物的制备及高压研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 羟基氧化物概述 | 第11-13页 |
| 1.1.1 羟基氧化物的特性 | 第11页 |
| 1.1.2 羟基氧化物的应用 | 第11-13页 |
| 1.2 ⅢA族羟基氧化物的特性及研究进展 | 第13-21页 |
| 1.2.1 羟基氧化铝的特性及研究进展 | 第13-18页 |
| 1.2.2 羟基氧化镓的特性及研究进展 | 第18-21页 |
| 1.3 高压研究 | 第21-22页 |
| 1.3.1 高压效应 | 第21-22页 |
| 1.3.2 羟基氧化物的高压研究 | 第22页 |
| 1.4 选题意义和研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 实验方法和表征方法 | 第24-32页 |
| 2.1 水热法 | 第24-26页 |
| 2.1.1 水热法的原理 | 第24-25页 |
| 2.1.2 水热法的特征 | 第25页 |
| 2.1.3 溶剂热法 | 第25-26页 |
| 2.2 实验材料和仪器设备 | 第26-27页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第26-27页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第27页 |
| 2.3 表征方法 | 第27-29页 |
| 2.3.1 X射线衍射 | 第27页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜 | 第28页 |
| 2.3.4 紫外可见吸收光谱 | 第28页 |
| 2.3.5 光致发光 | 第28页 |
| 2.3.6 测试仪器简介 | 第28-29页 |
| 2.4 高压实验装置及实验技术 | 第29-32页 |
| 2.4.1 高压实验装置 | 第29-30页 |
| 2.4.2 高压原位同步辐射X射线衍射 | 第30-31页 |
| 2.4.3 高压拉曼散射光谱技术 | 第31-32页 |
| 第三章 ⅢA族羟基氧化物的制备及表征 | 第32-46页 |
| 3.1 γ-AlOOH纳米片的制备及表征 | 第32-35页 |
| 3.1.1 实验过程 | 第32页 |
| 3.1.2 样品表征 | 第32-35页 |
| 3.2 羟基氧化镓的制备及表征 | 第35-44页 |
| 3.2.1 实验过程 | 第35-37页 |
| 3.2.2 羟基氧化镓粉体的表征 | 第37-44页 |
| 3.3 本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 γ-AlOOH纳米片的高压研究 | 第46-54页 |
| 4.1 研究背景 | 第46-47页 |
| 4.2 高压同步辐射X射线衍射结果与分析 | 第47-50页 |
| 4.3 γ-AlOOH纳米片的高压拉曼散射研究 | 第50-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 5.1 结论 | 第54-55页 |
| 5.2 展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-68页 |
| 作者简介 | 第68-69页 |
| 攻读硕士学位期间所取得的科研成果 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
