摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第12-32页 |
1.1 选题背景及意义 | 第12-13页 |
1.2 聚合物刷的研究进展概况 | 第13-18页 |
1.2.1 聚合物刷 | 第13页 |
1.2.2 聚合物刷的制备方法 | 第13-17页 |
1.2.3 聚合物刷的应用 | 第17-18页 |
1.3 表面引发原子转移自由基聚合(SI-ATRP)制备聚合物刷的研究进展 | 第18-25页 |
1.3.1 ATRP的研究进展 | 第18-21页 |
1.3.2 SI-ATRP制备聚合物刷的研究进展 | 第21-23页 |
1.3.3 SI-ATRP制备聚合物刷的动力学研究 | 第23-25页 |
1.4 光调控表面引发原子转移自由基聚合制备聚合物刷的研究进展 | 第25-31页 |
1.4.1 光引发自由基聚合的研究进展 | 第25-26页 |
1.4.2 光调控ATRP的研究进展 | 第26-28页 |
1.4.3 光调控SI-ATRP制备聚合物刷的研究进展 | 第28-29页 |
1.4.4 光调控SI-ATRP动力学的研究 | 第29-31页 |
1.5 本文研究的意义及主要内容 | 第31-32页 |
第2章 光调控SI-ATRP制备PEGMA聚合物刷的技术路线和表征方法的探究 | 第32-41页 |
2.1 主要实验材料 | 第32页 |
2.2 主要实验仪器和实验设备 | 第32-33页 |
2.2.1 主要光学反应装置 | 第32-33页 |
2.2.2 实验测试仪器 | 第33页 |
2.3 实验方法 | 第33-38页 |
2.3.1 食人鱼溶液处理表面羟基化 | 第33-34页 |
2.3.2 硅片表面接枝引发剂 | 第34页 |
2.3.3 硅片表面PEGMA聚合物刷的生长 | 第34-35页 |
2.3.4 在PEGMA聚合物刷上嵌段NIPAM | 第35页 |
2.3.5 硅片表面PEGMA抗蛋白吸附的研究 | 第35页 |
2.3.6 反应中催化剂浓度的调节 | 第35-36页 |
2.3.7 反应中光照强度的调节 | 第36-37页 |
2.3.8 反应中单体浓度的调节 | 第37页 |
2.3.9 反应中接枝密度的调节 | 第37页 |
2.3.10 硅片表面PEGMA的图案化 | 第37-38页 |
2.4 测试表征方法的选择 | 第38-39页 |
2.4.1 表面化学组分测试 | 第38页 |
2.4.2 聚合物刷的表面形貌表征 | 第38-39页 |
2.4.3 聚合物刷厚度的表征 | 第39页 |
2.4.4 催化剂的荧光光谱分析 | 第39页 |
2.4.5 聚合物刷图案的表征 | 第39页 |
2.4.6 PEGMA聚合物刷抗蛋白吸附的表征 | 第39页 |
2.5 本章小结 | 第39-41页 |
第3章 光调控SI-ATRP制备PEGMA表面聚合物刷的特性研究 | 第41-51页 |
3.1 聚合物刷生长过程中硅片表面化学组成的研究 | 第41-43页 |
3.2 PEGMA/Ir(ppy)_3催化体系的稳态淬灭研究 | 第43页 |
3.3 不同光源对PEGMA聚合物刷生长曲线的影响研究 | 第43-44页 |
3.4 PEGMA聚合物刷的表面形貌研究 | 第44-45页 |
3.5 PEGMA聚合物刷的图案化特性研究 | 第45-46页 |
3.6 硅片表面PEGMA聚合物刷的抗蛋白吸附特性研究 | 第46-48页 |
3.7 不同反应条件对PEGMA聚合物刷生长曲线的影响 | 第48-49页 |
3.8 本章小结 | 第49-51页 |
第4章 光调控表面引发原子转移自由基聚合动力学模型的建立 | 第51-59页 |
4.1 自由基"迁移"终止动力学模型 | 第51-55页 |
4.2 初始线性终止动力学模型 | 第55-57页 |
4.3 本章小结 | 第57-59页 |
第5章 不同反应条件对动力学模型拟合结果的影响研究 | 第59-71页 |
5.1 催化剂浓度对PEGMA聚合物刷生长的影响 | 第59-62页 |
5.2 光照强度对PEGMA聚合物刷生长的影响 | 第62-64页 |
5.3 单体浓度对PEGMA聚合物刷生长的影响 | 第64-67页 |
5.4 引发剂接枝密度对PEGMA聚合物刷生长的影响 | 第67-69页 |
5.5 本章小结 | 第69-71页 |
第6章 结论与展望 | 第71-73页 |
6.1 结论 | 第71-72页 |
6.2 展望 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-82页 |
致谢 | 第82-83页 |
攻读硕士学位期间的学术成果 | 第83页 |