| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 铈及其氧化物 | 第10-12页 |
| 1.1.1 铈的性质 | 第10-11页 |
| 1.1.2 铈的氧化物 | 第11页 |
| 1.1.3 铈及其氧化物的应用及研究现状 | 第11-12页 |
| 1.2 Ce等稀土元素的结构特性 | 第12-13页 |
| 1.3 CeF_3等稀土氟化物的结构和性质 | 第13-14页 |
| 1.4 CeF_3的制备方法 | 第14-16页 |
| 1.4.1 湿式氟化法 | 第14-15页 |
| 1.4.2 干式氟化法 | 第15-16页 |
| 1.5 CeF_3熔体制备晶体方法 | 第16-19页 |
| 1.5.1 提拉法 | 第16-17页 |
| 1.5.2 坩埚下降法 | 第17-18页 |
| 1.5.3 区熔法 | 第18-19页 |
| 1.6 真空镀膜及光学薄膜研究现状 | 第19-21页 |
| 1.7 课题研究目的及意义 | 第21-22页 |
| 2 实验方法 | 第22-25页 |
| 2.1 实验过程所用原料及相关设备 | 第22-23页 |
| 2.2 课题研究技术路线 | 第23-24页 |
| 2.3 分析测试方法 | 第24-25页 |
| 2.2.1 物质溶解百分比的测定 | 第24页 |
| 2.2.2 物相表征及分析 | 第24页 |
| 2.2.3 分光光度计测试镀膜性能 | 第24-25页 |
| 3 CeF_3制备的工艺研究 | 第25-33页 |
| 3.1 CeO_2的溶解工艺 | 第25-28页 |
| 3.1.1 盐酸浓度对CeO_2溶解的影响 | 第25-26页 |
| 3.1.2 溶解时间对CeO_2溶解的影响 | 第26-27页 |
| 3.1.3 溶解温度对CeO_2溶解的影响 | 第27-28页 |
| 3.2 氯化铈溶液氟化制备CeF_3 | 第28-31页 |
| 3.2.1 氢氟酸直接氟化制备的CeF_3 | 第29-30页 |
| 3.2.2 草酸铈转型氟化制备CeF_3 | 第30-31页 |
| 3.3 CeF_3脱氧处理 | 第31-32页 |
| 3.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 4 CeF_3晶体制备和表征 | 第33-43页 |
| 4.1 结晶原料和结晶装置的选择 | 第33-35页 |
| 4.2 保温时间对CeF_3结晶的影响 | 第35-37页 |
| 4.3 反应气氛对CeF_3结晶的影响 | 第37-38页 |
| 4.4 降温制度对CeF_3结晶过程的影响 | 第38-39页 |
| 4.5 添加剂对CeF_3结晶过程的影响 | 第39-42页 |
| 4.5.1 添加剂原料的分析 | 第39-40页 |
| 4.5.2 添加NH_4HF_2、ZnF_2对CeF_3结晶的影响 | 第40-42页 |
| 4.6 本章小结 | 第42-43页 |
| 5 CeF_3镀膜实验及镀膜残余分析 | 第43-48页 |
| 5.1 CeF_3晶体的蒸发特性和薄膜的光学性能分析 | 第43-45页 |
| 5.2 CeF_3镀膜残余料的分析 | 第45-46页 |
| 5.3 本章小结 | 第46-48页 |
| 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-52页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53页 |