环境压力与气体成分对等离子喷涂纳米结构YSZ热障涂层微观结构的影响
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 等离子喷涂 | 第9-10页 |
| 1.1.1 热喷涂技术简介 | 第9页 |
| 1.1.2 等离子喷涂分类 | 第9-10页 |
| 1.2 等离子射流特性 | 第10-13页 |
| 1.2.1 热等离子体 | 第10-11页 |
| 1.2.2 不同环境压力中的等离子射流 | 第11-13页 |
| 1.3 大气等离子喷涂的原理和特点 | 第13-14页 |
| 1.4 低压/超低压等离子喷涂的原理和特点 | 第14-16页 |
| 1.5 等离子喷涂技术的应用 | 第16页 |
| 1.6 热障涂层简介 | 第16-21页 |
| 1.6.1 氧化钇稳定氧化锆简介 | 第17-18页 |
| 1.6.2 目前热障涂层的制备方法 | 第18-19页 |
| 1.6.3 纳米YSZ热障涂层的优势 | 第19-21页 |
| 1.7 本文的研究目标和内容 | 第21-23页 |
| 第2章 大气等离子喷涂YSZ涂层 | 第23-35页 |
| 2.1 大气等离子喷涂设备简介 | 第23-24页 |
| 2.1.1 大气等离子喷枪 | 第23-24页 |
| 2.2 纳米YSZ粉末简介 | 第24-28页 |
| 2.2.1 烧结YSZ粉末和未烧结YSZ粉末 | 第24-26页 |
| 2.2.2 喷雾干燥法制备团聚YSZ粉末 | 第26-28页 |
| 2.3 喷涂参数对等离子喷涂的影响 | 第28-32页 |
| 2.3.1 等离子工作气体种类 | 第28-30页 |
| 2.3.2 等离子气体流量 | 第30页 |
| 2.3.3 粉末注入的方式 | 第30-31页 |
| 2.3.4 喷涂距离 | 第31-32页 |
| 2.4 试样制备 | 第32-33页 |
| 2.4.1 基体预处理 | 第32页 |
| 2.4.2 打底层的喷涂 | 第32-33页 |
| 2.4.3 大气等离子喷涂 | 第33页 |
| 2.4.4 喷涂后处理 | 第33页 |
| 2.5 大气等离子喷涂操作步骤 | 第33-34页 |
| 2.6 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 低压/超低压等离子喷涂YSZ涂层 | 第35-41页 |
| 3.1 低压/超低压等离子喷涂设备简介 | 第35-36页 |
| 3.2 低压/超低压等离子喷枪 | 第36-38页 |
| 3.3 试样制备 | 第38-39页 |
| 3.4 低压/超低压等离子喷涂操作步骤 | 第39-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 涂层组织结构分析 | 第41-54页 |
| 4.1 大气等离子喷涂涂层 | 第41-43页 |
| 4.2 低压等离子喷涂涂层 | 第43-47页 |
| 4.2.1 使用烧结粉制备的涂层 | 第43-46页 |
| 4.2.2 使用未烧结粉制备的涂层 | 第46-47页 |
| 4.3 超低压等离子喷涂涂层 | 第47-52页 |
| 4.3.1 使用烧结粉制备的涂层 | 第47-49页 |
| 4.3.2 使用未烧结粉制备的涂层 | 第49-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第5章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 5.1 结论 | 第54页 |
| 5.2 展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 作者简介 | 第60页 |
