| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1. 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 软磁薄膜 | 第9-14页 |
| 1.1.1 软磁金属单层膜 | 第9-10页 |
| 1.1.2 软磁金属多层膜 | 第10-11页 |
| 1.1.3 软磁薄膜的高频性能 | 第11-12页 |
| 1.1.4 软磁薄膜材料的应用 | 第12-14页 |
| 1.2 FeCo基薄膜的研究进展 | 第14页 |
| 1.3 软磁性薄膜磁化过程的微磁学模拟 | 第14-16页 |
| 1.4 本论文的研究思路及主要内容 | 第16-18页 |
| 2 微磁学模拟与实验方法 | 第18-28页 |
| 2.1 微磁学模拟基础 | 第18-22页 |
| 2.1.1 微磁学基本能量 | 第18-21页 |
| 2.1.2 微磁学静态方程(Brown方程) | 第21-22页 |
| 2.1.3 微磁学动态方程(LLG方程) | 第22页 |
| 2.2 微磁学模拟软件OOMMF介绍 | 第22-23页 |
| 2.3 磁控溅射技术 | 第23-25页 |
| 2.4 振动样品磁强计(VSM) | 第25页 |
| 2.5 矢量网络分析仪 | 第25-28页 |
| 3 具有扇形缺口的椭圆环的微磁学模拟 | 第28-42页 |
| 3.1 具有30°扇形缺口椭圆环的微磁学模拟 | 第28-31页 |
| 3.2 外加磁场方向与缺口位置对椭圆环磁化反转过程的影响 | 第31-36页 |
| 3.2.1 扇形缺口在长轴位置 | 第31-33页 |
| 3.2.2 扇形缺口在短轴位置 | 第33-36页 |
| 3.3 其它因素对具有扇形缺口的椭圆环的影响 | 第36-41页 |
| 3.3.1 缺口大小的影响 | 第36-37页 |
| 3.3.2 磁体单元厚度的影响 | 第37-38页 |
| 3.3.3 环壁宽度的影响 | 第38-39页 |
| 3.3.4 外环长轴与短轴之比的影响 | 第39-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 4 FeCo基高频软磁薄膜的制备及性能研究 | 第42-58页 |
| 4.1 FeCoDy薄膜的制备 | 第42-44页 |
| 4.2 气压溅射对FeCoDy薄膜磁性能的影响 | 第44-51页 |
| 4.2.1 气压溅射对FeCoDy薄膜静态磁性能的影响 | 第44-46页 |
| 4.2.2 气压溅射对FeCoDy薄膜动态磁性能的影响 | 第46-47页 |
| 4.2.3 气压溅射对FeCoDy薄膜软磁薄膜磁化动力学参数的影响 | 第47-51页 |
| 4.3 稀土Dy掺杂含量对FeCoDy薄膜磁性能的影响 | 第51-56页 |
| 4.3.1 Dy掺杂量对FeCo基软磁薄膜静态磁性能的影响 | 第51-53页 |
| 4.3.2 Dy掺杂量对FeCo基软磁薄膜动态磁性能的影响 | 第53页 |
| 4.3.3 Dy掺杂量对FeCo基软磁薄膜磁化动力学参数的影响 | 第53-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 附录 | 第65页 |
