摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-22页 |
1.1 引言 | 第9页 |
1.2 自然界的超疏水表面 | 第9-10页 |
1.2.1 超疏水的植物表面 | 第9-10页 |
1.2.2 超疏水的动物表面 | 第10页 |
1.3 超疏水的理论基础 | 第10-13页 |
1.3.1 接触角和杨氏方程 | 第10-11页 |
1.3.2 Wenzel与Cassie理论模型 | 第11-12页 |
1.3.3 接触角滞后与滚动角 | 第12-13页 |
1.4 制备金属基超疏水表面的方法 | 第13-16页 |
1.4.1 化学刻蚀法 | 第14页 |
1.4.2 自组装法及其基本原理 | 第14-15页 |
1.4.3 氧化法 | 第15页 |
1.4.4 沉积法 | 第15-16页 |
1.4.5 溶胶凝胶法 | 第16页 |
1.5 超疏水材料的应用 | 第16-19页 |
1.5.1 超疏水自清洁 | 第16-17页 |
1.5.2 防覆冰、防结霜 | 第17页 |
1.5.3 金属防腐 | 第17-18页 |
1.5.4 油水分离 | 第18-19页 |
1.6 本文的内容及研究目的和意义 | 第19-22页 |
第二章 铜片上化学沉积贵金属超疏水表面 | 第22-37页 |
2.1 引言 | 第22-23页 |
2.2 材料及实验仪器 | 第23-24页 |
2.3 实验过程 | 第24-35页 |
2.3.1 无氟修饰在铜片上制备纯金属超疏水表面 | 第24-29页 |
2.3.1.1 实验样品的制备 | 第24-25页 |
2.3.1.2 镀金对紫铜片表面浸润性的影响 | 第25页 |
2.3.1.3 氯金酸溶度对表面润湿性的影响 | 第25-27页 |
2.3.1.4 镀金紫铜片表面的XRD分析 | 第27-28页 |
2.3.1.5 镀金紫铜片表面的XPS分析 | 第28-29页 |
2.3.1.6 镀金铜片表面超疏水/超亲水的智能转变 | 第29页 |
2.3.2 无氟修饰在铜片上制备镀铂超疏水表面 | 第29-35页 |
2.3.2.1 实验样品的制备 | 第30页 |
2.3.2.2 镀铂对金属铜片表面润湿性的影响 | 第30-31页 |
2.3.2.3 温度对表面润湿性的影响 | 第31-32页 |
2.3.2.4 镀铂超疏水铜片表面的XRD分析 | 第32-33页 |
2.3.2.5 镀铂超疏水铜片表面的XPS分析 | 第33-34页 |
2.3.2.6 镀铂金属铜片表面稳定性研究 | 第34-35页 |
2.3.2.7 镀铂铜片表面超疏水/亲水的智能转变 | 第35页 |
2.4 本章小结 | 第35-37页 |
第三章 铜片上电镀铜超疏水表面 | 第37-47页 |
3.1 引言 | 第37页 |
3.2 实验内容 | 第37-45页 |
3.2.1 材料及实验仪器 | 第37-38页 |
3.2.2 实验过程 | 第38-43页 |
3.2.2.1 超疏水样品的制备 | 第38-39页 |
3.2.2.2 超疏水样品的表面润湿性 | 第39-40页 |
3.2.2.3 电镀铜超疏水铜表面形貌分析 | 第40-41页 |
3.2.2.4 电镀铜超疏水的XRD分析 | 第41-42页 |
3.2.2.5 电镀铜超疏水的XPS分析 | 第42页 |
3.2.2.6 紫外光照对超疏水样品的影响 | 第42-43页 |
3.2.3 电沉积各因素对表面润湿性的影响 | 第43-45页 |
3.2.3.1 电沉积时间对表面润湿性的影响 | 第43-44页 |
3.2.3.2 电沉积温度对表面润湿性的影响 | 第44页 |
3.2.3.3 电沉积电压对表面润湿性的影响 | 第44-45页 |
3.3 本章小结 | 第45-47页 |
第四章 铜片上化学沉积非金属超疏水表面 | 第47-55页 |
4.1 引言 | 第47页 |
4.2 实验内容 | 第47-49页 |
4.2.1 材料及实验仪器 | 第47-48页 |
4.2.2 实验原理及步骤 | 第48-49页 |
4.2.2.1 实验原理 | 第48-49页 |
4.2.2.2 实验步骤 | 第49页 |
4.3 表征方法 | 第49-54页 |
4.3.1 浸泡CuCl_2溶液对铜表面润湿性的影响 | 第50页 |
4.3.2 浸泡CuCl_2溶液的超疏水铜表面形貌分析 | 第50-51页 |
4.3.3 浸泡CuCl_2溶液的超疏水铜的EDS分析 | 第51-52页 |
4.3.4 浸泡CuCl_2溶液的超疏水铜的XRD分析 | 第52页 |
4.3.5 浸泡CuCl_2溶液的超疏水铜的XPS分析 | 第52-53页 |
4.3.6 紫外光对超疏水铜表面的影响 | 第53-54页 |
4.4 本章小结 | 第54-55页 |
第五章 结论与展望 | 第55-57页 |
5.1 结论 | 第55-56页 |
5.2 展望 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-63页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第63-64页 |
致谢 | 第64-65页 |