摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第12-34页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 薄膜生长理论 | 第13-21页 |
1.2.1 生长模式 | 第13-14页 |
1.2.2 热力学形核理论 | 第14-15页 |
1.2.3 形核动力学理论 | 第15-18页 |
1.2.4 台阶流动理论 | 第18-20页 |
1.2.5 螺旋生长理论 | 第20-21页 |
1.3 动力学作用下薄膜生长的研究进展 | 第21-23页 |
1.4 数值模拟技术 | 第23-28页 |
1.4.1 分子动力学模拟(MD) | 第24页 |
1.4.2 第一性原理(FPT) | 第24-25页 |
1.4.3 动力学蒙特卡罗方法(KMC) | 第25-27页 |
1.4.4 界面跟踪法(Front-tracking Method) | 第27页 |
1.4.5 Level-set方法 | 第27页 |
1.4.6 相场法 | 第27-28页 |
1.5 相场模拟薄膜生长的研究现状 | 第28-31页 |
1.5.1 相场模型简介 | 第28页 |
1.5.2 相场模型的分析方法 | 第28-29页 |
1.5.3 相场模拟的研究进展 | 第29-31页 |
1.6 本章的主要研究工作 | 第31-34页 |
第二章 相场理论模型 | 第34-44页 |
2.1 相场模拟的基本原理 | 第34-38页 |
2.1.1 相变基础 | 第35-36页 |
2.1.2 朗道(Landau)相变模型 | 第36-37页 |
2.1.3 金兹伯格-朗道相变理论 | 第37-38页 |
2.2 相场模型 | 第38-44页 |
2.2.1 凝固过程中的纯物质相场模型 | 第38-40页 |
2.2.2 二元合金等温凝固的相场模型 | 第40-41页 |
2.2.3 外延生长的相场模型 | 第41-44页 |
第三章 形核与EHRLICH-SCHWOEBEL势垒作用下相场模型的渐进性分析 | 第44-62页 |
3.1 引言 | 第44-45页 |
3.2 模型描述 | 第45-47页 |
3.2.1 尖锐界面模型 | 第45-46页 |
3.2.2 相场模型 | 第46-47页 |
3.3 相场模型的渐进性分析 | 第47-52页 |
3.3.1 坐标变换与边界条件 | 第47-49页 |
3.3.2 p~0阶项的求解 | 第49页 |
3.3.3 p~1阶项的求解 | 第49-50页 |
3.3.4 p~2阶项的展开 | 第50-52页 |
3.4 非平衡动力学作用对渐进解的影响规律 | 第52-61页 |
3.4.1 局域平衡近似 | 第52页 |
3.4.2 形核动力学作用 | 第52-56页 |
3.4.3 ES势垒动力学作用 | 第56-61页 |
3.5 本章小结 | 第61-62页 |
第四章 相场模拟EHRLICH-SCHWOEBEL势垒作用的机制验证及应用 | 第62-82页 |
4.1 引言 | 第62-63页 |
4.2 模型构建 | 第63-65页 |
4.2.1 尖锐界面模型 | 第63页 |
4.2.2 相场模型 | 第63-65页 |
4.3 ES势垒作用下的台阶流动 | 第65-73页 |
4.3.1 模型参数 | 第65-66页 |
4.3.2 ES势垒作用分析 | 第66-68页 |
4.3.3 收敛性分析 | 第68-70页 |
4.3.4 ES势垒强度分析 | 第70-73页 |
4.4 ES势垒作用下的外延生长 | 第73-80页 |
4.4.1 多层结构生长 | 第73-75页 |
4.4.2 亚单层多岛生长 | 第75-78页 |
4.4.3 螺旋生长 | 第78-80页 |
4.5 本章小结 | 第80-82页 |
第五章 立方钙钛矿薄膜初始形核机制的相场法调制 | 第82-98页 |
5.1 引言 | 第82-83页 |
5.2 模型简介 | 第83-84页 |
5.2.1 经典形核理论 | 第83-84页 |
5.2.2 相场模型 | 第84页 |
5.3 相场模拟亚单层岛生长 | 第84-89页 |
5.3.1 参数选择与初始条件 | 第84-85页 |
5.3.2 薄膜外延生长过程 | 第85-87页 |
5.3.3 亚单层初始岛的相场法模拟 | 第87-88页 |
5.3.4 相场模拟与经典形核理论的对照 | 第88-89页 |
5.4 相场法调制形核动力学机制 | 第89-95页 |
5.4.1 预设临界形核尺寸相关的模型修正 | 第89-91页 |
5.4.2 形核动力学系数的调制作用 | 第91-93页 |
5.4.3 界面附着动力学的调制作用 | 第93-95页 |
5.5 本章小结 | 第95-98页 |
第六章 六方小面相螺旋生长的定量相场研究 | 第98-112页 |
6.1 引言 | 第98-99页 |
6.2 模型描述与参数选择 | 第99-101页 |
6.2.1 相场模型 | 第99页 |
6.2.2 参数选择 | 第99-100页 |
6.2.3 初始条件与边界条件 | 第100-101页 |
6.3 结果分析与讨论 | 第101-111页 |
6.3.1 螺旋生长过程 | 第101页 |
6.3.2 各向异性对界面的作用 | 第101-104页 |
6.3.3 各向异性对收敛性的影响 | 第104-105页 |
6.3.4 表面吸附率对生长界面与解收敛性的影响规律 | 第105-107页 |
6.3.5 附着界面动力学对表面形貌和生长机制的调制作用 | 第107-111页 |
6.4 本章小结 | 第111-112页 |
第七章 总结 | 第112-114页 |
7.1 主要结论 | 第112-113页 |
7.2 主要创新点 | 第113-114页 |
参考文献 | 第114-126页 |
致谢 | 第126-128页 |
攻读博士学位期间发表的学术论文和参加科研情况 | 第128-129页 |