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动力学作用下外延薄膜生长的定量相场研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-7页
第一章 绪论第12-34页
    1.1 引言第12-13页
    1.2 薄膜生长理论第13-21页
        1.2.1 生长模式第13-14页
        1.2.2 热力学形核理论第14-15页
        1.2.3 形核动力学理论第15-18页
        1.2.4 台阶流动理论第18-20页
        1.2.5 螺旋生长理论第20-21页
    1.3 动力学作用下薄膜生长的研究进展第21-23页
    1.4 数值模拟技术第23-28页
        1.4.1 分子动力学模拟(MD)第24页
        1.4.2 第一性原理(FPT)第24-25页
        1.4.3 动力学蒙特卡罗方法(KMC)第25-27页
        1.4.4 界面跟踪法(Front-tracking Method)第27页
        1.4.5 Level-set方法第27页
        1.4.6 相场法第27-28页
    1.5 相场模拟薄膜生长的研究现状第28-31页
        1.5.1 相场模型简介第28页
        1.5.2 相场模型的分析方法第28-29页
        1.5.3 相场模拟的研究进展第29-31页
    1.6 本章的主要研究工作第31-34页
第二章 相场理论模型第34-44页
    2.1 相场模拟的基本原理第34-38页
        2.1.1 相变基础第35-36页
        2.1.2 朗道(Landau)相变模型第36-37页
        2.1.3 金兹伯格-朗道相变理论第37-38页
    2.2 相场模型第38-44页
        2.2.1 凝固过程中的纯物质相场模型第38-40页
        2.2.2 二元合金等温凝固的相场模型第40-41页
        2.2.3 外延生长的相场模型第41-44页
第三章 形核与EHRLICH-SCHWOEBEL势垒作用下相场模型的渐进性分析第44-62页
    3.1 引言第44-45页
    3.2 模型描述第45-47页
        3.2.1 尖锐界面模型第45-46页
        3.2.2 相场模型第46-47页
    3.3 相场模型的渐进性分析第47-52页
        3.3.1 坐标变换与边界条件第47-49页
        3.3.2 p~0阶项的求解第49页
        3.3.3 p~1阶项的求解第49-50页
        3.3.4 p~2阶项的展开第50-52页
    3.4 非平衡动力学作用对渐进解的影响规律第52-61页
        3.4.1 局域平衡近似第52页
        3.4.2 形核动力学作用第52-56页
        3.4.3 ES势垒动力学作用第56-61页
    3.5 本章小结第61-62页
第四章 相场模拟EHRLICH-SCHWOEBEL势垒作用的机制验证及应用第62-82页
    4.1 引言第62-63页
    4.2 模型构建第63-65页
        4.2.1 尖锐界面模型第63页
        4.2.2 相场模型第63-65页
    4.3 ES势垒作用下的台阶流动第65-73页
        4.3.1 模型参数第65-66页
        4.3.2 ES势垒作用分析第66-68页
        4.3.3 收敛性分析第68-70页
        4.3.4 ES势垒强度分析第70-73页
    4.4 ES势垒作用下的外延生长第73-80页
        4.4.1 多层结构生长第73-75页
        4.4.2 亚单层多岛生长第75-78页
        4.4.3 螺旋生长第78-80页
    4.5 本章小结第80-82页
第五章 立方钙钛矿薄膜初始形核机制的相场法调制第82-98页
    5.1 引言第82-83页
    5.2 模型简介第83-84页
        5.2.1 经典形核理论第83-84页
        5.2.2 相场模型第84页
    5.3 相场模拟亚单层岛生长第84-89页
        5.3.1 参数选择与初始条件第84-85页
        5.3.2 薄膜外延生长过程第85-87页
        5.3.3 亚单层初始岛的相场法模拟第87-88页
        5.3.4 相场模拟与经典形核理论的对照第88-89页
    5.4 相场法调制形核动力学机制第89-95页
        5.4.1 预设临界形核尺寸相关的模型修正第89-91页
        5.4.2 形核动力学系数的调制作用第91-93页
        5.4.3 界面附着动力学的调制作用第93-95页
    5.5 本章小结第95-98页
第六章 六方小面相螺旋生长的定量相场研究第98-112页
    6.1 引言第98-99页
    6.2 模型描述与参数选择第99-101页
        6.2.1 相场模型第99页
        6.2.2 参数选择第99-100页
        6.2.3 初始条件与边界条件第100-101页
    6.3 结果分析与讨论第101-111页
        6.3.1 螺旋生长过程第101页
        6.3.2 各向异性对界面的作用第101-104页
        6.3.3 各向异性对收敛性的影响第104-105页
        6.3.4 表面吸附率对生长界面与解收敛性的影响规律第105-107页
        6.3.5 附着界面动力学对表面形貌和生长机制的调制作用第107-111页
    6.4 本章小结第111-112页
第七章 总结第112-114页
    7.1 主要结论第112-113页
    7.2 主要创新点第113-114页
参考文献第114-126页
致谢第126-128页
攻读博士学位期间发表的学术论文和参加科研情况第128-129页

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