柔性衬底微纳结构制备与性能研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 微纳加工技术 | 第11-12页 |
| 1.2 纳米压印技术 | 第12-15页 |
| 1.2.1 纳米压印技术的分类 | 第12-14页 |
| 1.2.2 纳米压印技术的应用 | 第14-15页 |
| 1.3 柔性衬底与柔性器件 | 第15-19页 |
| 1.4 本论文的主要内容 | 第19-21页 |
| 第二章. 双层膜体系褶皱与裂纹图案 | 第21-37页 |
| 2.1 引言 | 第21页 |
| 2.2 褶皱的制备与研究 | 第21-24页 |
| 2.3 双层膜体系褶皱及裂纹图案 | 第24-35页 |
| 2.3.1 实验部分 | 第24-26页 |
| 2.3.2 结果与讨论 | 第26-35页 |
| 2.5 本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 周期可调金属光栅的制备及表征 | 第37-49页 |
| 3.1 引言 | 第37-39页 |
| 3.1.1 金属转移技术 | 第37-38页 |
| 3.1.2 可调谐金属光栅 | 第38-39页 |
| 3.2 实验部分 | 第39-41页 |
| 3.2.1 透明弹性衬底制备 | 第39-40页 |
| 3.2.2 聚乙烯醇光栅图案的制备 | 第40-41页 |
| 3.2.3 金属光栅的制备与转移 | 第41页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第41-47页 |
| 3.3.1 光栅结构的制备和表征 | 第41-44页 |
| 3.3.2 周期可调金属光栅的光学性能 | 第44-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 微纳高分子结构拉伸性能及应用 | 第49-75页 |
| 4.1 引言 | 第49-51页 |
| 4.2 纳米图案与微米褶皱的嵌套结构 | 第51-54页 |
| 4.3 550nm周期高分子光栅结构拉伸 | 第54-68页 |
| 4.3.1 表面防粘处理 | 第55-56页 |
| 4.3.2 基于丙烯酸酯聚硅氧烷的硬质层 | 第56页 |
| 4.3.3 模量较小的紫外光固化胶作为硬质层 | 第56-68页 |
| 4.4 2.8μmm周期高分子光栅结构拉伸 | 第68-72页 |
| 4.5 其他结构拉伸形变 | 第72-74页 |
| 4.6 本章小结 | 第74-75页 |
| 第五章 总结与展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-85页 |
| 攻读硕士期间的成果 | 第85-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
